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1. (WO2019045340) SUBSTRATE PLACING MEANS AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
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公布号: WO/2019/045340 国际申请号: PCT/KR2018/009507
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 20.08.2018
国际专利分类:
H01L 21/687 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01) ,H01L 21/683 (2006.01)
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
683
用于支承或夹紧的
687
使用机械装置的,例如卡盘、夹具或夹子
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
683
用于支承或夹紧的
申请人:
주성엔지니어링(주) JUSUNG ENGINEERING CO., LTD. [KR/KR]; 경기도 광주시 오포읍 오포로 240 240, Opo-ro, Opo-eup Gwangju-si Gyeonggi-do 12773, KR
发明人:
김종식 KIM, Jong Sik; KR
신현욱 SHIN, Hyun Wook; KR
이수연 LEE, Su Yeon; KR
代理人:
특허법인 천문 ASTRAN INT'L IP GROUP; 서울시 강남구 역삼로 233, 5층 (역삼동, 신성빌딩) (ShinSung Building, Yeoksam-dong) 5th Floor, 233, Yeoksam-ro, Gangnam-gu Seoul 06225, KR
优先权数据:
10-2017-011038030.08.2017KR
10-2018-005266508.05.2018KR
标题 (EN) SUBSTRATE PLACING MEANS AND SUBSTRATE TREATING DEVICE
(FR) MOYEN DE PLACEMENT DE SUBSTRAT ET DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(KO) 기판안치수단 및 기판처리장치
摘要:
(EN) The present invention relates to a substrate placing means and a substrate treating device, the substrate placing means comprising: a disk; and a plurality of substrate placing units radially disposed around the center of the disk, and having substrates respectively placed therein, wherein upper surfaces of the substrate placing units protrude further upwardly than an upper surface of the disk.
(FR) La présente invention concerne un moyen de placement de substrat et un dispositif de traitement de substrat, le moyen de placement de substrat comprenant : un disque ; et une pluralité d'unités de placement de substrat disposées radialement autour du centre du disque, et ayant des substrats respectivement placés à l'intérieur, les surfaces supérieures des unités de placement de substrat faisant saillie davantage vers le haut qu'une surface supérieure du disque.
(KO) 본 발명은 기판처리장치의 기판안치수단으로서, 디스크; 및 상기 디스크의 중심에서 방사상으로 배치되며, 기판이 각각 안치되는 복수개의 기판안치부를 포함하되, 상기 기판안치부의 상면은 상기 디스크의 상면보다 상측으로 더 돌출된 기판안치수단 및 기판처리장치에 관한 것이다.
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 韩语 (KO)
申请语言: 韩语 (KO)