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1. (WO2019044914) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
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公布号: WO/2019/044914 国际申请号: PCT/JP2018/031979
公布日: 07.03.2019 国际申请日: 29.08.2018
国际专利分类:
C11D 7/50 (2006.01) ,B01D 61/14 (2006.01) ,C07B 63/00 (2006.01) ,C07B 63/04 (2006.01) ,C07C 7/00 (2006.01) ,C07C 7/20 (2006.01) ,C07C 9/14 (2006.01) ,C07C 29/74 (2006.01) ,C07C 29/94 (2006.01) ,C07C 31/10 (2006.01) ,C07C 41/34 (2006.01) ,C07C 41/46 (2006.01) ,C07C 43/04 (2006.01) ,C07C 43/13 (2006.01) ,C07C 45/78 (2006.01) ,C07C 45/86 (2006.01) ,C07C 49/04 (2006.01) ,C07C 49/395 (2006.01) ,C07C 49/403 (2006.01) ,C07C 67/48 (2006.01) ,C07C 67/62 (2006.01) ,C07C 69/14 (2006.01) ,C07C 69/68 (2006.01) ,C07C 69/708 (2006.01) ,C07D 307/33 (2006.01) ,G03F 7/004 (2006.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
11
动物或植物油、脂、脂肪物质或蜡;由此制取的脂肪酸;洗涤剂;蜡烛
D
洗涤剂组合物;用单一物质作为洗涤剂;皂或制皂;树脂皂;甘油的回收
7
主要以非表面活性化合物为基料的洗涤剂组合物
50
溶剂
B 作业;运输
01
一般的物理或化学的方法或装置
D
分离
61
使用半透膜的分离
14
超滤;微量过滤
C 化学;冶金
07
有机化学
B
有机化学的一般方法;所用的装置
63
纯化;尤其是为回收有机化合物而进行的分离;稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
B
有机化学的一般方法;所用的装置
63
纯化;尤其是为回收有机化合物而进行的分离;稳定化;添加剂的使用
04
添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
7
烃的纯化、分离或稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
7
烃的纯化、分离或稳定化;添加剂的使用
20
使用添加剂,例如用于稳定化
C CHEMISTRY; METALLURGY
07
ORGANIC CHEMISTRY
C
ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
9
Acyclic saturated hydrocarbons
14
with five to fifteen carbon atoms
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
29
含羟基或氧-金属基连接碳原子(不属于六元芳环的)的化合物的制备
74
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
29
含羟基或氧-金属基连接碳原子(不属于六元芳环的)的化合物的制备
74
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
94
使用添加剂,例如,用于稳定化
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
31
非环碳原子上连接羟基或氧-金属基的饱和化合物
02
非环一元醇
10
含3个碳原子
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
41
醚的制备;有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物的制备
01
醚的制备
34
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
41
醚的制备;有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物的制备
01
醚的制备
34
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
46
使用添加剂,例如用于稳定化
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
43
醚;含有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物
02
03
所有的醚-氧原子都连接在非环碳原子上
04
饱和醚
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
43
醚;含有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物
02
03
所有的醚-氧原子都连接在非环碳原子上
04
饱和醚
13
含羟基或氧-金属基的
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
45
含有CO基,只连接碳或氢原子的化合物的制备;此类化合物的螯合物的制备
78
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
45
含有CO基,只连接碳或氢原子的化合物的制备;此类化合物的螯合物的制备
78
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
86
使用添加剂,例如用于稳定化
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
49
酮;乙烯酮;二聚乙烯酮
04
有酮基连接在非环碳原子上的饱和化合物
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
49
酮;乙烯酮;二聚乙烯酮
385
酮基作为环部分的饱和化合物
395
五元环的
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
49
酮;乙烯酮;二聚乙烯酮
385
酮基作为环部分的饱和化合物
403
六元环的
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
67
羧酸酯的制备
48
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
67
羧酸酯的制备
48
分离;纯化;稳定化;添加剂的使用
62
使用添加剂,例如用于稳定化
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
69
羧酸酯;碳酸酯或卤甲酸酯
02
无环饱和一元羧酯,其含有羧基连接非环碳原子或氢
12
乙酸酯
14
一元羟基化合物的
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
69
羧酸酯;碳酸酯或卤甲酸酯
66
羧酸酯,其酯化的羧基连接在非环碳原子上,且酸的部分含有羟基、氧-金属基、醛基、酮基、醚基、酰氧基、COOC基、COOCOC基或COOCOCOC中的任何基
67
饱和酸的
675
饱和羟基羧酸的
68
乳酸酯
C 化学;冶金
07
有机化学
C
无环或碳环化合物
69
羧酸酯;碳酸酯或卤甲酸酯
66
羧酸酯,其酯化的羧基连接在非环碳原子上,且酸的部分含有羟基、氧-金属基、醛基、酮基、醚基、酰氧基、COOC基、COOCOC基或COOCOCOC中的任何基
67
饱和酸的
708
C 化学;冶金
07
有机化学
D
杂环化合物(高分子化合物入C08)
307
Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
02
不和其他环稠合
26
环原子间或环原子与非环原子间有1个双键
30
有杂原子,或有3个键连杂原子,其中最多有1个键连卤原子的碳原子,例如酯基或腈基,直接连在环碳原子上
32
氧原子
33
在位置2,氧原子为酮基或非取代的烯醇形式
G PHYSICS
03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
7
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
004
感光材料
04
铬酸盐类
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割
304
机械处理,例如研磨、抛光、切割
申请人:
富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP/JP]; 東京都港区西麻布2丁目26番30号 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620, JP
发明人:
上村 哲也 KAMIMURA Tetsuya; JP
吉留 正洋 YOSHIDOME Masahiro; JP
河田 幸寿 KAWADA Yukihisa; JP
代理人:
渡辺 望稔 WATANABE Mochitoshi; JP
伊東 秀明 ITOH Hideaki; JP
三橋 史生 MITSUHASHI Fumio; JP
优先权数据:
2017-16731931.08.2017JP
标题 (EN) DRUG SOLUTION PURIFICATION METHOD AND DRUG SOLUTION
(FR) PROCÉDÉ DE PURIFICATION DE SOLUTION MÉDICAMENTEUSE ET SOLUTION MÉDICAMENTEUSE
(JA) 薬液の精製方法、及び、薬液
摘要:
(EN) The present invention addresses the problem of providing a drug solution purification method with which it is possible to obtain a drug solution exhibiting excellent impairment suppression performance. The present invention also addresses the problem of providing a drug solution. The drug solution purification method according to the present invention is for obtaining a drug solution through filtration of a to-be-purified material containing an organic solvent, wherein the contained amount of a stabilizing agent in the to-be-purified material is not less than 0.1 ppm by mass but less than 100 ppm by mass with respect to the total mass of the to-be-purified material.
(FR) La présente invention aborde le problème consistant à fournir un procédé de purification de solution médicamenteuse grâce auquel il est possible d'obtenir une solution médicamenteuse présentant une excellente performance de suppression d'altération. La présente invention aborde également le problème consistant à fournir une solution médicamenteuse. Le procédé de purification de solution médicamenteuse selon la présente invention est destiné à obtenir une solution médicamenteuse par filtration d'un matériau à purifier contenant un solvant organique, la quantité d'agent stabilisant contenue dans le matériau à purifier étant non inférieure à 0,1 ppm en masse mais inférieure à 100 ppm en masse par rapport à la masse totale du matériau à purifier.
(JA) 本発明は、優れた欠陥抑制性能を有する薬液が得られる、薬液の精製方法の提供を課題とする。また、薬液の提供も課題とする。本発明の薬液の精製方法は、有機溶剤を含有する被精製物を精製して薬液を得る、薬液の精製方法であって、被精製物中における安定化剤の含有量が、被精製物の全質量に対して0.1質量ppm以上、100質量ppm未満である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)