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1. (WO2018181713) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
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公布号: WO/2018/181713 国际申请号: PCT/JP2018/013240
公布日: 04.10.2018 国际申请日: 29.03.2018
国际专利分类:
C01B 33/18 (2006.01) ,C09K 3/14 (2006.01) ,B24B 37/00 (2012.01) ,H01L 21/304 (2006.01)
C 化学;冶金
01
、C07、C08 无机、有机或有机高分子化合物;其制备或分离的方法
B
非金属元素;其化合物
33
硅;其化合物
113
氧化硅;其水合物
12
硅石;其水合物,如勒皮硅酸
18
既非溶胶态又非凝胶态的细分散硅石的制备;其后处理
C 化学;冶金
09
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
K
不包含在其他类目中的各种应用材料;不包含在其他类目中的材料的各种应用
3
不包含在其他类目中的材料
14
防滑材料;研磨材料
B 作业;运输
24
磨削;抛光
B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
37
研磨机床或装置;附件
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割
304
机械处理,例如研磨、抛光、切割
申请人:
日揮触媒化成株式会社 JGC CATALYSTS AND CHEMICALS LTD. [JP/JP]; 神奈川県川崎市幸区堀川町580番地 580 Horikawa-cho, Saiwai-ku, Kawasaki City, Kanagawa 2120013, JP
发明人:
江上 美紀 EGAMI Miki; JP
熊澤 光章 KUMAZAWA Mitsuaki; JP
荒金 宏忠 ARAKANE Hirotada; JP
村口 良 MURAGUCHI Ryo; JP
平井 俊晴 HIRAI Toshiharu; JP
代理人:
▲高▼津 一也 TAKATSU Kazuya; JP
优先权数据:
2017-07150231.03.2017JP
标题 (EN) PRODUCTION METHOD FOR SILICA PARTICLE LIQUID DISPERSION
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION D’UNE DISPERSION LIQUIDE DE PARTICULES DE SILICE
(JA) シリカ粒子分散液の製造方法
摘要:
(EN) [Problem] To efficiently produce silica particles by inhibiting production of unreacted materials. [Solution] This silica particle liquid dispersion production method comprises simultaneously adding, to liquid I containing silica seed particles, liquid A containing a silane alkoxide and liquid B containing an alkali catalyst and water, to grow the silica seed particles and thereby produce silica particles, wherein the change rate of the molar ratio of the alkali catalyst to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10, and the change rate of the molar ratio of the water to the silica component, with respect to the initial value thereof, in the reaction system during a period from the start to end of the addition, is 0.90-1.10.
(FR) Le problème décrit par la présente invention est de produire d’une manière efficace des particules de silice en inhibant la production de matériaux n’ayant pas réagi. La solution selon l’invention porte sur un procédé de production d’une dispersion liquide de particules de silice, consistant à ajouter simultanément, au liquide (I) contenant des particules semences de silice, un liquide (A) contenant un alcoxyde de silane et un liquide (B) contenant un catalyseur alcalin et de l’eau, pour faire croître les particules semences de silice et produire ainsi des particules de silice, où le niveau de changement du rapport molaire du catalyseur alcalin au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10, et le niveau de changement du rapport molaire de l’eau au constituant de silice, par rapport à sa valeur initiale, dans le système réactionnel sur une durée depuis le début jusqu’à la fin de l’addition, est de 0,90 à 1,10.
(JA) 【課題】未反応物の生成を抑制して、効率よくシリカ粒子を製造すること。 【解決手段】シリカ種粒子を含有する液Iに対して、シランアルコキシドを含有する液Aと、アルカリ触媒及び水を含有する液Bとを同時に添加することにより、シリカ種粒子を成長させてシリカ粒子を製造するシリカ粒子分散液の製造方法であって、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対するアルカリ触媒のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であり、添加開始から終了までの期間の反応系におけるシリカ成分に対する水のモル比の初期値に対する変化率が、0.90~1.10であるシリカ粒子分散液の製造方法である。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
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非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)