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1. (WO2018131545) CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
国际局存档的最新著录项目数据提交意见

公布号: WO/2018/131545 国际申请号: PCT/JP2018/000113
公布日: 19.07.2018 国际申请日: 05.01.2018
国际专利分类:
C08L 83/07 (2006.01) ,C08K 3/00 (2018.01) ,C08K 5/04 (2006.01) ,C08K 5/3477 (2006.01) ,C08K 5/54 (2006.01) ,C08L 63/00 (2006.01) ,C08L 83/05 (2006.01) ,H01L 23/29 (2006.01) ,H01L 23/31 (2006.01) ,H01L 33/56 (2010.01)
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
L
高分子化合物的组合物
83
由只在主链中形成含硅的,有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物;此种聚合物的衍生物的组合物
04
聚硅氧烷
07
含连接到不饱和脂族基团的硅的
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
K
使用无机物或非高分子有机物作为配料(涂料、油墨、清漆、染料、抛光剂、黏合剂入C09)
3
使用无机配料
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
K
使用无机物或非高分子有机物作为配料(涂料、油墨、清漆、染料、抛光剂、黏合剂入C09)
5
使用有机配料
04
含氧化合物
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
K
使用无机物或非高分子有机物作为配料(涂料、油墨、清漆、染料、抛光剂、黏合剂入C09)
5
使用有机配料
16
含氮化合物
34
在环中有氮的杂环化合物
3467
环中有两个以上氮原子
3477
六元环
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
K
使用无机物或非高分子有机物作为配料(涂料、油墨、清漆、染料、抛光剂、黏合剂入C09)
5
使用有机配料
54
含硅化合物
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
L
高分子化合物的组合物
63
环氧树脂的组合物;环氧树脂衍生物的组合物
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
L
高分子化合物的组合物
83
由只在主链中形成含硅的,有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物;此种聚合物的衍生物的组合物
04
聚硅氧烷
05
含连接到氢的硅的
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
23
半导体或其他固态器件的零部件
28
封装,例如密封层、涂覆物
29
按材料特点进行区分的
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
23
半导体或其他固态器件的零部件
28
封装,例如密封层、涂覆物
31
按配置特点进行区分的
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
33
至少有一个电位跃变势垒或表面势垒的专门适用于光发射的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备;这些半导体器件的零部件
48
以半导体封装体为特征的
52
封装
56
材料,例如环氧树脂或硅树脂
申请人:
株式会社ダイセル DAICEL CORPORATION [JP/JP]; 大阪府大阪市北区大深町3番1号 3-1, Ofuka-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300011, JP
发明人:
籔野真也 YABUNO, Shinya; JP
中川泰伸 NAKAGAWA, Yasunobu; JP
代理人:
特許業務法人後藤特許事務所 GOTO & CO.; 大阪府大阪市北区紅梅町2番18号 2-18, Kobai-cho, Kita-ku, Osaka-shi, Osaka 5300038, JP
优先权数据:
2017-00545416.01.2017JP
标题 (EN) CURABLE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT THEREOF, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE DURCISSABLE, PRODUT DURCI À BASE DE CELLE-CI ET DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR
(JA) 硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び半導体装置
摘要:
(EN) The purpose of the present invention is to provide a curable resin composition in which an increase in hardness or a decrease in elongation caused by heat or light is suppressed and which forms a tough cured product. The present invention provides a curable resin composition that contains the following components: a polyorganosiloxane at a quantity of 0.01-90 wt% relative to the overall composition, the polyorganosiloxane represented by the average unit formula (SiO4/2)a5(R1bSiO3/2)a6(R1b2SiO2/2)a7(R1b3SiO1/2)a8 [In the formula, R1b denotes an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, or the like. Relative to the overall quantity of R1b, the quantity of alkyl groups is 30-98 mol%, the quantity of aryl groups is 30-98 mol%, and the quantity of alkenyl groups is 1-20 mol%. a5 > 0, a6 ≥ 0, 0.03 ≤ a7 ≤ 0.7, a8 > 0, 0.01 ≤ a5/a7 ≤ 10, and a5+a6+a7+a8 = 1.]; a polyorganosiloxane at a quantity whereby the amount of SiH groups is 0.5-2 moles relative to 1 mole of alkenyl groups bonded to silicon atoms, the polyorganosiloxane represented by the average composition R2mHnSiO[(4-m-n)/2] [In the formula, R2 denotes an alkyl group or an aryl group. At least two SiH groups are present. 0.7 ≤ m ≤ 2.1, 0.001 ≤ n ≤ 1, and 0.8 ≤ m+n ≤ 3.]; and a hydrosilylation catalyst.
(FR) L'objectif de la présente invention est de proposer une composition de résine durcissable dont l'augmentation de la dureté ou la diminution de l'allongement sous l'effet de la chaleur ou de la lumière est supprimée et qui forme un produit durci résistant. La présente invention concerne une composition de résine durcissable qui contient les composants suivants : un polyorganosiloxane à hauteur de 0,01 à 90 % en poids par rapport à la composition dans son ensemble, le polyorganosiloxane étant représenté par la formule unitaire moyenne (SiO4/2) a5(R1bSiO3/2)a6(R1b 2SiO2/2)a7(R1b 3SiO1/2)a8 [dans la formule, R1b représente un groupe alkyle, un groupe aryle, un groupe alcényle, ou similaire. Par rapport à la quantité totale de R1b, la quantité de groupes alkyle est égale à 30 à 98 % en moles, la quantité de groupes aryle à 30 à 98 % en moles et la quantité de groupes alcényle à 1 à 20 % en moles. A5 > 0, a6 ≥ 0, 0,03 ≤ a7 ≤ 0,7, a8 > 0, 0,01 ≤ a5/a7 ≤ 10 et a5 + a6 + a7 + a8 = 1] ;un polyorganosiloxane présent en quantité telle à ce que la quantité de groupes SiH est égale à 0,5 à 2 moles pour 1 mole de groupes alcényle liés aux atomes de silicium, le polyorganosiloxane étant représenté par la composition moyenne R2 mHnSiO [(4-m-n)/2] [dans la formule, R2 représente un groupe alkyle ou un groupe aryle. Au moins deux groupes SiH sont présents. 0,7 ≤ m ≤ 2,1, 0,001 ≤ n ≤ 1 et 0,8 ≤ m + n ≤ 3] ;et un catalyseur d'hydrosilylation.
(JA) 本発明は熱・光による硬度上昇や伸度低下が抑制され、強靭な硬化物を形成する硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。 本発明は、下記成分を含む硬化性樹脂組成物を提供する。 平均単位式:(SiO4/2a5(R1bSiO3/2a6(R1b2SiO2/2a7(R1b3SiO1/2a8 [式中、R1bはアルキル基、アリール基、アルケニル基等。R1b全量に対してアルキル基は30~98モル%、アリール基は30~98モル%、アルケニル基は1~20モル%。a5>0、a6≧0、0.03≦a7≦0.7、a8>0、0.01≦a5/a7≦10、a5+a6+a7+a8=1]で表されるポリオルガノシロキサンを組成物全量に対して0.01~90重量% 平均組成:R2mnSiO[(4-m-n)/2] [式中、R2は、アルキル基、アリール基。SiH基を少なくとも2個有する。0.7≦m≦2.1、0.001≦n≦1、0.8≦m+n≦3]で表されるポリオルガノシロキサンをケイ素原子に結合したアルケニル基1モルに対して、SiH基が0.5~2モルとなる量 ヒドロシリル化触媒
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)