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1. (WO2017002196) MATCHING BOX AND MATCHING METHOD
国际局存档的最新著录项目数据

公布号: WO/2017/002196 国际申请号: PCT/JP2015/068820
公布日: 05.01.2017 国际申请日: 30.06.2015
国际专利分类:
H05H 1/46 (2006.01) ,H01L 21/3065 (2006.01) ,H01L 21/31 (2006.01) ,H03H 7/40 (2006.01)
H 电学
05
其他类目不包含的电技术
H
等离子体技术;加速的带电粒子或中子的产生;中性分子或原子射束的产生或加速
1
等离子体的产生;等离子体的处理
24
等离子体的产生
46
应用外加电磁场的,例如高频能或微波能
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
302
改变半导体材料的表面物理特性或形状的,例如腐蚀、抛光、切割
306
化学或电处理,例如电解腐蚀
3065
等离子腐蚀;活性离子腐蚀
H 电学
01
基本电气元件
L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
21
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
02
半导体器件或其部件的制造或处理
04
至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件,例如PN结、耗尽层、载体集结层
18
器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体,如掺杂材料
30
用H01L 21/20至H01L 21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的
31
在半导体材料上形成绝缘层的,例如用于掩膜的或应用光刻技术的;以及这些层的后处理;这些层的材料的选择
H 电学
03
基本电子电路
H
阻抗网络,例如谐振电路;谐振器
7
仅以无源电气元件作为网络部件的多端对网络
38
阻抗匹配网络
40
负荷阻抗对信号源阻抗的自动匹配
申请人:
株式会社日立国際電気 HITACHI KOKUSAI ELECTRIC INC. [JP/JP]; 東京都港区西新橋二丁目15番12号 15-12, Nishi-shimbashi 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1058039, JP
发明人:
藤本 直也 FUJIMOTO Naoya; JP
加藤 規一 KATO Norikazu; JP
押田 善之 OSHIDA Yoshiyuki; JP
代理人:
ポレール特許業務法人 POLAIRE I.P.C.; 東京都中央区日本橋茅場町二丁目13番11号 13-11, Nihonbashikayabacho 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1030025, JP
优先权数据:
标题 (EN) MATCHING BOX AND MATCHING METHOD
(FR) BOÎTE D'ADAPTATION ET PROCÉDÉ D'ADAPTATION
(JA) 整合器及び整合方法
摘要:
(EN) Provided is a matching box comprising the following: a directional coupler that detects traveling waves and reflected waves; a matching circuit having a first variable capacitance capacitor, a second variable capacitance capacitor, and inductance; and a control unit that calculates a reflection coefficient on the basis of the traveling waves and the reflected waves, and controls a capacitance value VC1 of the first variable capacitance capacitor and a capacitance value VC2 of the second variable capacitance capacitor, wherein the control unit changes VC2 if the distance between a matching circle drawn by the trajectory of the reflection coefficient passing through a matching point on a Smith chart, and the calculated reflection coefficient is greater than a prescribed value, and changes VC1 if such distance is set to be no greater than the prescribed value and when the value of such distance becomes no greater than the prescribed value, thereby reducing the reflection coefficient.
(FR) L'invention concerne une boîte d'adaptation comprenant les éléments suivants : un coupleur directionnel qui détecte des ondes progressives et des ondes réfléchies; un circuit d'adaptation ayant un premier condensateur à capacitance variable, un second condensateur à capacitance variable, et une inductance; et une unité de commande qui calcule un coefficient de réflexion sur la base des ondes progressives et des ondes réfléchies, et commande une valeur de capacité VC1 du premier condensateur à capacitance variable et une valeur de capacité VC2 du second condensateur à capacitance variable, laquelle unité de commande modifie VC2 si la distance entre un cercle d'adaptation tracé par la trajectoire du coefficient de réflexion passant par un point d'adaptation sur un diagramme de Smith, et lequel coefficient de réflexion calculé est supérieur à une valeur prescrite, et change VC1 si une telle distance est réglée pour ne pas être supérieure à la valeur prescrite et lorsque la valeur de ladite distance est inférieure ou égale à la valeur prescrite, ce qui permet de réduire le coefficient de réflexion.
(JA) 進行波と反射波とを検出する方向性結合器と、第1の可変容量コンデンサと第2の可変容量コンデンサとインダクタンスとを有する整合回路と、進行波と反射波とに基づき反射係数を算出し第1の可変容量コンデンサの容量値VC1と前記第2の可変容量コンデンサの容量値VC2とを制御する制御部と、を備える整合器において、制御部は、スミスチャート上で整合点を通過する反射係数の軌跡が描く整合円と、算出された反射係数との間の距離が所定値より大きい場合は、VC2を変更して、前記距離を前記所定値以内とし、前記距離が前記所定値以内になると、VC1を変更して反射係数を小さくする。
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指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
非洲地区知识产权组织 (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
欧亚专利局 (EAPO) (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
欧洲专利局 (EPO) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
非洲知识产权组织 (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
公布语言: 日语 (JA)
申请语言: 日语 (JA)
也发表为:
KR1020180010239JPWO2017002196US20180191324