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1. DE102008006699 - Copolymermaterial auf Propylenbasis, daraus hergestellter Film und Verfahren zur Herstellung von Copolymermaterial auf Propylenbasis

专利局 德国
申请号 102008006699
申请日 30.01.2008
公布号 102008006699
公布日 09.10.2008
公布类型 A1
国际专利分类
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
210
只有1个碳-碳双键的不饱和脂族烃的共聚物
04
含有3个或4个碳原子的单体
06
丙烯
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
210
只有1个碳-碳双键的不饱和脂族烃的共聚物
04
含有3个或4个碳原子的单体
08
丁烯
C 化学;冶金
08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
F
仅用碳-碳不饱和键反应得到的高分子化合物
255
由单体接到C08F 10/00组所规定的烃类聚合物上聚合而得到的高分子化合物
02
接到具有两个或3个碳原子的烯烃聚合物上
06
接到乙烯-丙烯-二烯的三元共聚物上
C08F 210/06
C08F 210/08
C08F 255/06
CPC
C08J 5/18
C08J 2323/10
C08L 23/10
C08L 2205/02
申请人 SUMITOMO CHEMICAL CO
发明人 NOZAWA HIROSHI
优先权数据 2007022848 01.02.2007 JP
标题
(DE) Copolymermaterial auf Propylenbasis, daraus hergestellter Film und Verfahren zur Herstellung von Copolymermaterial auf Propylenbasis
摘要
(DE)

Beschrieben wird ein Copolymermaterial auf Propylenbasis, das 1 bis 10 Gew.-% an einer im Folgenden definierten copolymerisierten Komponente auf Propylenbasis (1) und 90 bis 99 Gew.-% an einer im Folgenden definierten copolymerisierten Komponente auf Propylenbasis (2) umfasst und einen Schmelzpunkt aufweist, der nicht höher als 140°C ist, wobei die copolymerisierte Komponente auf Propylenbasis (1) eine copolymerisierte Komponente auf Propylenbasis ist, die 89 bis 97 Gew.-% an Propyleneinheiten, 0 bis 1,5 Gew.-% an Ethyleneinheiten und 3 bis 10 Gew.-% an 1-Buteneinheiten aufweist und einen Schmelzpunkt im Bereich von 145°C bis 155°C aufweist, und die copolymerisierte Komponente auf Propylenbasis (2) eine copolymerisierte Komponente auf Propylenbasis ist, die 80 bis 94 Gew.-% an Propyleneinheiten, 0 bis 10 Gew.-% an Ethyleneinheiten und 0 bis 20 Gew.-% an 1-Buteneinheiten umfasst. Ferner wird ein aus dem Copolymermaterial hergestellter Film beschrieben.

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