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1. (WO2016112375) PREPARATION AND APPLICATION OF PB-FREE NANOSOLDER
国际局存档的最新著录项目数据   

Translation翻译: 原语言 --> 中文
公布号:    WO/2016/112375    国际申请号:    PCT/US2016/012810
公布日: 14.07.2016 国际申请日: 11.01.2016
国际专利分类:
B23K 35/02 (2006.01), B23K 35/22 (2006.01), B23K 31/02 (2006.01), H05K 13/04 (2006.01), B23K 3/00 (2006.01), H01R 43/02 (2006.01)
申请人: UNIVERSITY OF MASSACHUSETTS [US/US]; One Beacon Street, 31st Floor Boston, MA 02108 (US)
发明人: GU, Zhiyong; (US).
GAO, Fan; (US).
WERNICKI, Evan; (US).
CAMPELLI, Jonathan; (US)
代理人: MILSTEIN, Joseph, B.; (US)
优先权数据:
62/101,803 09.01.2015 US
标题 (EN) PREPARATION AND APPLICATION OF PB-FREE NANOSOLDER
(FR) PRÉPARATION ET APPLICATION DE NANOBRASURE EXEMPTE DE PB
摘要: front page image
(EN)The preparation and use of particulate metallic solder alloy having particles of a single chemical composition is described. The particles of the particulate metallic solder alloy have a bimodal size distribution in which particles in a smaller size range have a largest dimension that is smaller than a smallest dimension of particles in a larger size range of the bimodal distribution. In some examples the particles in the smaller size mode have dimensions in the range of 1 to 100 nm. In some examples, the particles in the larger size mode have dimensions in the range of 2 to 75 microns in dimension. In some examples, a halogen-free flux is used. In some examples, a solvent is used to make a paste.
(FR)La présente invention concerne la préparation et l'utilisation d'un alliage de brasure métallique particulaire comprenant des particules ayant une composition chimique unique. Les particules de l'alliage de brasure métallique particulaire ont une répartition bimodale de taille dans laquelle les particules situées dans une plage de taille plus petite ont une dimension la plus grande qui est inférieure à la dimension la plus petite des particules situées dans une plage de taille plus grande de la répartition bimodale. Dans certains exemples, les particules appartenant au mode à taille plus petite ont des dimensions situées dans la plage allant de 1 à 100 nm. Dans certains exemples, les particules appartenant au mode à taille plus grande ont des dimensions situées dans la plage allant de 2 à 75 microns de dimension. Dans certains exemples, un flux exempt d'halogène est utilisé. Dans certains exemples, un solvant est utilisé pour préparer une pâte.
指定国: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JP, KE, KG, KN, KP, KR, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW.
African Regional Intellectual Property Organization (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Eurasian Patent Organization (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
European Patent Office (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
African Intellectual Property Organization (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
公布语言: English (EN)
申请语言: English (EN)