Некоторое содержание этого приложения в настоящий момент недоступно.
Если эта ситуация сохраняется, свяжитесь с нами по адресуОтзывы и контакты
1. (WO2019032730) VARIABLE APERTURE MASK
Новейшие библиограф. данные, касающиеся досье в Международном бюро    Отправить комментарий

№ публикации: WO/2019/032730 № международной заявки: PCT/US2018/045852
Дата публикации: 14.02.2019 Дата международной подачи: 08.08.2018
МПК:
G03F 7/20 (2006.01) ,G03F 1/84 (2012.01) ,H01L 21/66 (2006.01) ,H01L 21/67 (2006.01)
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
7
Фотомеханическое, например фотолитографическое, изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например печатные поверхности; материалы для этих целей, например содержащие фоторезисты; устройства, специально приспособленные для этих целей
20
экспонирование, устройства для этой цели
G ФИЗИКА
03
Фотография; кинематография; аналогичное оборудование, использующее волны иные, чем оптические; электрография; голография
F
Фотомеханическое изготовление рельефных (текстурированных) поверхностей или поверхностей с рисунком, например для печати, для изготовления полупроводниковых приборов; материалы для этих целей; оригиналы для этих целей; устройства, специально приспособленные для этих целей
1
Оригиналы для фотомеханического получения текстурированных или фигурных поверхностей, например масок, фотомасок, сеток; бланки фотомасок или пленки для них; контейнеры, специально предназначенные для них; их изготовление
68
процессы изготовления, не отнесенные к группам
82
вспомогательные процессы, например чистка
84
проверка
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
66
испытания или измерения в процессе изготовления или обработки
H ЭЛЕКТРИЧЕСТВО
01
Основные элементы электрического оборудования
L
Полупроводниковые приборы; электрические приборы на твердом теле, не отнесенные к другим классам или подклассам
21
Способы и устройства, специально предназначенные для изготовления или обработки полупроводниковых приборов или приборов на твердом теле или их частей
67
устройства, специально предназначенные для манипулирования полупроводниковыми или электронными устройствами на твердом теле при их изготовлении или обработке; устройства, специально предназначенные для манипулирования полупроводниковыми пластинами при изготовлении или обработке полупроводниковых или электрических устройств на твердом теле или их компонентов
Заявители:
KLA-TENCOR CORPORATION [US/US]; Legal Department One Technology Drive Milpitas, California 95035, US
Изобретатели:
BLASENHEIM, Barry; US
SAPIENS, Noam; US
FRIEDMANN, Michael; US
ROVIRA, Pablo; US
Агент:
MCANDREWS, Kevin; US
MORRIS, Elizabeth M. N.; US
Дата приоритета:
16/056,24406.08.2018US
62/543,31509.08.2017US
Название (EN) VARIABLE APERTURE MASK
(FR) MASQUE PERFORÉ AJUSTABLE
Реферат:
(EN) In some embodiments, a collection system of a semiconductor metrology tool includes a chuck to support a target from which an optical beam is reflected and an aperture mask to provide an adjustable aperture for the reflected optical beam. The aperture mask includes a plurality of opaque plates with adjustable positions. The collection system also includes a spectrometer to receive the reflected optical beam. The aperture mask is situated between the chuck and the spectrometer along the optical axis.
(FR) Dans certains de ses modes de réalisation, la présente invention concerne un système de collecte d'un outil de métrologie semi-conducteur qui comprend un mandrin pour supporter une cible à partir de laquelle un faisceau optique est réfléchi ainsi qu'un masque perforé pour fournir une ouverture ajustable pour le faisceau optique réfléchi. Le masque perforé comprend une pluralité de plaques opaques ayant des positions ajustables. Le système de collecte comprend également un spectromètre pour recevoir le faisceau optique réfléchi. Le masque perforé est situé entre le mandrin et le spectromètre le long de l'axe optique.
front page image
Указанные государства: AE, AG, AL, AM, AO, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BH, BN, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CL, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DJ, DK, DM, DO, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, GT, HN, HR, HU, ID, IL, IN, IR, IS, JO, JP, KE, KG, KH, KN, KP, KR, KW, KZ, LA, LC, LK, LR, LS, LU, LY, MA, MD, ME, MG, MK, MN, MW, MX, MY, MZ, NA, NG, NI, NO, NZ, OM, PA, PE, PG, PH, PL, PT, QA, RO, RS, RU, RW, SA, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SM, ST, SV, SY, TH, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, ZA, ZM, ZW
Африканская региональная организация промышленной собственности (АРОПС) (BW, GH, GM, KE, LR, LS, MW, MZ, NA, RW, SD, SL, ST, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Евразийская патентная организация (AM, AZ, BY, KG, KZ, RU, TJ, TM)
Европейское патентное ведомство (ЕПВ) (AL, AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HR, HU, IE, IS, IT, LT, LU, LV, MC, MK, MT, NL, NO, PL, PT, RO, RS, SE, SI, SK, SM, TR)
Африканская организация интеллектуальной собственности (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, KM, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Язык публикации: Английский (EN)
Язык подачи: Английский (EN)