(EN) This display device production method comprises: a) a step for forming a first resist layer on a substrate; b) a step for patterning the first resist layer by removing the first resist layer formed on a first region of the substrate; c) a step for forming a first luminescent material layer on the patterned first resist layer and above the first region of the substrate from which the first resist layer is removed; d) a step for forming a second resist layer on the first luminescent material layer; e) a step for patterning the second resist layer by removing the first resist layer formed on a second region of the substrate, and lifting off the first luminescent material layer formed on the first resist layer on the second region and the second resist layer; and f) a step for forming a second luminescent material layer on the patterned second resist layer and above the second region of the substrate from which the second resist layer is removed.
(FR) La présente invention concerne un procédé de production de dispositif d'affichage comprenant : a) une étape consistant à former une première couche de réserve sur un substrat ; b) une étape consistant à créer un motif sur la première couche de réserve en retirant la première couche de réserve formée sur une première région du substrat ; c) une étape consistant à former une première couche de matériau luminescent sur la première couche de réserve à motif et au-dessus de la première région du substrat de laquelle la première couche de réserve est retirée ; d) une étape consistant à former une seconde couche de réserve sur la première couche de matériau luminescent ; e) une étape consistant à créer un motif sur la seconde couche de réserve en retirant la première couche de réserve formée sur une seconde région du substrat, et à décoller la première couche de matériau luminescent formée sur la première couche de réserve sur la seconde région et la seconde couche de réserve ; et f) une étape consistant à former une seconde couche de matériau luminescent sur la seconde couche de réserve à motif et au-dessus de la seconde région du substrat de laquelle la seconde couche de réserve est retirée.
(JA) 表示装置の製造方法は、a)基板の上に第1レジスト層を形成する工程、b)基板の第1領域の上に形成された第1レジスト層を除去して第1レジスト層をパターニングする工程、c)パターニングされた第1レジスト層の上、および第1レジスト層が除去された基板の第1領域の上方に第1発光材料層を形成する工程、d)第1発光材料層の上に第2レジスト層を形成する工程、e)基板の第2領域の上に形成された第1レジスト層を除去し、第2領域の上の第1レジスト層の上に形成された第1発光材料層及び第2レジスト層をリフトオフすることで第2レジスト層をパターニングする工程、及びf)パターニングされた第2レジスト層の上、および第2レジスト層が除去された基板の第2領域の上方に第2発光材料層を形成する工程と、を含む。