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1. WO2021247249 - IGNITION DE PLASMA ASSISTÉE PAR PHOTOÉLECTRONS

Numéro de publication WO/2021/247249
Date de publication 09.12.2021
N° de la demande internationale PCT/US2021/033524
Date du dépôt international 21.05.2021
CIB
H01J 37/32 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
Déposants
  • LAM RESEARCH CORPORATION [US]/[US]
Inventeurs
  • CHEN, Lee
  • CHANDRASEKHARAN, Ramesh
  • SMITH, Shaun Tyler
  • SAKIYAMA, Yukinori
  • DURBIN, Aaron
  • HENRI, Jon
Mandataires
  • WIGGINS, Michael D.
  • KESKAR, Hemant M.
Données relatives à la priorité
63/033,50702.06.2020US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PHOTOELECTRON ASSISTED PLASMA IGNITION
(FR) IGNITION DE PLASMA ASSISTÉE PAR PHOTOÉLECTRONS
Abrégé
(EN) A substrate processing system includes a gas source, an RF source, and a light source. The gas source supplies a first gas to a process module of the substrate processing system. The RF source supplies RF power to the process module to generate plasma when the first gas is supplied to the process module of the substrate processing system. The light source is coupled to the process module to introduce light into the process module during the plasma generation.
(FR) Système de traitement de substrat comprenant une source de gaz, une source RF et une source de lumière. La source de gaz fournit un premier gaz à un module de traitement du système de traitement de substrat. La source RF fournit une puissance RF au module de traitement pour générer un plasma lorsque le premier gaz est fourni au module de traitement du système de traitement de substrat. La source de lumière est couplée au module de traitement pour introduire une lumière dans le module de traitement lors de la génération de plasma.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international