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1. WO2021060060 - COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT

Numéro de publication WO/2021/060060
Date de publication 01.04.2021
N° de la demande internationale PCT/JP2020/034791
Date du dépôt international 14.09.2020
CIB
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
G03F 7/023 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
022Quinonediazides
023Quinonediazides macromoléculaires; Additifs macromoléculaires, p.ex. liants
CPC
G03F 7/004
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
G03F 7/023
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
022Quinonediazides
023Macromolecular quinonediazides; Macromolecular additives, e.g. binders
Déposants
  • 日本ゼオン株式会社 ZEON CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 堤 隆志 TSUTSUMI Takashi
Mandataires
  • 杉村 憲司 SUGIMURA Kenji
Données relatives à la priorité
2019-17723927.09.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE RÉSINE SENSIBLE AU RAYONNEMENT
(JA) 感放射線性樹脂組成物
Abrégé
(EN)
The purpose of the present invention is to provide a radiation-sensitive resin composition capable of forming a resin film in which top loss of a line pattern is suppressed and which exhibits excellent heat flow resistance. This radiation-sensitive resin composition contains (A) a cyclic olefin polymer having a protonic polar group; (B) a cresol novolac resin having a softening point of 140ºC or higher; (C) an acid generator; and (D) a crosslinking agent.
(FR)
Le but de la présente invention est de fournir une composition de résine sensible au rayonnement capable de former un film de résine dans lequel une perte supérieure d'un motif de ligne est supprimée et qui présente une excellente résistance à l'écoulement de chaleur. Cette composition de résine sensible au rayonnement contient (A) un polymère d'oléfine cyclique ayant un groupe polaire protonique ; (B) une résine novolaque de crésol ayant un point de ramollissement de 140 °C ou plus ; (C) un générateur d'acide ; et (D) un agent de réticulation.
(JA)
本発明は、ラインパターンのトップロスが抑制されていると共に、熱フロー耐性に優れる樹脂膜を形成しうる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。本発明の感放射線性樹脂組成物は、プロトン性極性基を有する環状オレフィン重合体(A)、軟化点が140℃以上のクレゾールノボラック樹脂(B)、酸発生剤(C)、および架橋剤(D)を含む。
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