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1. WO2021044797 - DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE

Numéro de publication WO/2021/044797
Date de publication 11.03.2021
N° de la demande internationale PCT/JP2020/030057
Date du dépôt international 05.08.2020
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
Déposants
  • キヤノン株式会社 CANON KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 中山 諒 NAKAYAMA, Ryo
  • 小林 大輔 KOBAYASHI, Daisuke
Mandataires
  • 特許業務法人大塚国際特許事務所 OHTSUKA PATENT OFFICE, P.C.
Données relatives à la priorité
2019-16066303.09.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) EXPOSURE DEVICE, AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE
(FR) DISPOSITIF D'EXPOSITION ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'ARTICLE
(JA) 露光装置、および、物品製造方法
Abrégé
(EN)
This exposure device for performing scanning exposure of a substrate comprises an illumination optical system that illuminates a surface of an original plate (24) to be illuminated with light from a light source (1). The illumination optical system includes: a diffractive optical element (6) that converts, via a diffraction effect, the light intensity distribution of a luminous flux from the light source (1) onto a prescribed plane; a first light-shielding unit (18) disposed at a position defocused to the light source side from the conjugate plane of the surface to be illuminated; and a second light-shielding unit (20) disposed at a position defocused to the side of the surface to be illuminated from the conjugate plane of the surface to be illuminated. The diffractive optical element (6) has a diffractive property of reducing the difference between the scanning direction of the scanning exposure and a non-scanning direction orthogonal to the scanning direction, with respect to an integrated incident angle distribution obtained by integrating an incident angle distribution in a period where the scanning exposure illuminates a single point, the incident angle distribution being generated on the surface to be illuminated, by the first light-shielding unit (18) and the second light-shielding unit (20).
(FR)
La présente invention concerne un dispositif d'exposition destiné à effectuer une exposition par le balayage d'un substrat, celui-ci comprenant un système optique d'éclairage qui éclaire une surface d'une plaque originale (24) à éclairer avec de la lumière provenant d'une source de lumière (1). Le système optique d'éclairage comprend : un élément optique diffractif (6) qui convertit, par l'intermédiaire d'un effet de diffraction, la distribution d'intensité lumineuse d'un flux lumineux provenant de la source de lumière (1) sur un plan prescrit; une première unité de protection contre la lumière (18) disposée à une position défocalisée sur le côté de source de lumière à partir du plan conjugué de la surface à éclairer; et une seconde unité de protection contre la lumière (20) disposée à une position défocalisée sur le côté de la surface à éclairer à partir du plan conjugué de la surface à éclairer. L'élément optique diffractif (6) a une propriété de diffraction qui consiste en la réduction de la différence entre la direction de balayage de l'exposition par balayage et une direction de non balayage orthogonale à la direction de balayage, par rapport à une distribution d'angle incident intégrée obtenue par l'intégration d'une distribution d'angle incident dans une période dans laquelle l'exposition par balayage éclaire un seul point, la distribution d'angle incident étant générée sur la surface à éclairer, par la première unité de protection contre la lumière (18) et la seconde unité de protection contre la lumière (20).
(JA)
基板の走査露光を行う露光装置において、光源(1)からの光で原版(24)の被照明面を照明する照明光学系は、所定面上に、前記光源(1)からの光束の光強度分布を回折作用により変換する回折光学素子(6)と、前記被照明面の共役面から前記光源側にデフォーカスした位置に配置される第1遮光部(18)と、前記被照明面の前記共役面から前記被照明面側にデフォーカスした位置に配置される第2遮光部(20)と、を有する。前記回折光学素子(6)は、前記第1遮光部(18)と前記第2遮光部(20)とによって前記被照明面に生じる、ある一点を前記走査露光によって照明する期間における入射角度分布を積算した積算入射角度分布に関して、前記走査露光の走査方向と該走査方向と直交する非走査方向との差を低減する回折特性を有する。
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