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1. WO2021017104 - PROCÉDÉ D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SUBSTRAT POUR ANODE DE TYPE À STABILISATION DE DIMENSION À BASE DE TITANE

Numéro de publication WO/2021/017104
Date de publication 04.02.2021
N° de la demande internationale PCT/CN2019/105081
Date du dépôt international 10.09.2019
CIB
C23F 1/26 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
FENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
10Compositions de décapage
14Compositions aqueuses
16Compositions acides
26pour les métaux réfractaires
C25C 7/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
CPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION, LA RÉCUPÉRATION OU L'AFFINAGE ÉLECTROLYTIQUE DES MÉTAUX; APPAREILLAGES À CET EFFET
7Eléments structurels, ou leur assemblage, des cellules; Entretien ou conduite des cellules
02Electrodes; Leurs connexions
CPC
C23F 1/26
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE
1Etching metallic material by chemical means
10Etching compositions
14Aqueous compositions
16Acidic compositions
26for etching refractory metals
C25C 7/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
CPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC PRODUCTION, RECOVERY OR REFINING OF METALS; APPARATUS THEREFOR
7Constructional parts, or assemblies thereof, of cells; Servicing or operating of cells
02Electrodes
Déposants
  • 东北大学 NORTHEASTERN UNIVERSITY [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 谢锋 XIE, Feng
  • 路雨禾 LU, Yuhe
  • 王伟 WANG, Wei
  • 路殿坤 LU, Diankun
  • 畅永锋 CHANG, Yongfeng
  • 符岩 FU, Yan
Mandataires
  • 沈阳东大知识产权代理有限公司 SHENYANG DONGDA INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY CO., LTD
Données relatives à la priorité
201910689809.229.07.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) SUBSTRATE ETCHING METHOD FOR TITANIUM-BASED DIMENSION STABILIZATION TYPE ANODE
(FR) PROCÉDÉ D'ATTAQUE CHIMIQUE DE SUBSTRAT POUR ANODE DE TYPE À STABILISATION DE DIMENSION À BASE DE TITANE
(ZH) 一种钛基尺寸稳定型阳极的基体刻蚀方法
Abrégé
(EN)
The present invention provides a substrate etching method for a titanium-based dimension stabilization type anode. In the etching process, optimization on the titanium substrate surface micro morphology is achieved by using a nitrogen introduction method. The effect of enhancing the bonding force of a substrate and a coating is achieved by improving the surface roughness of the substrate, and therefore the purposes of effectively prolonging the working life of the titanium-based dimension stabilization type anode and improving the working efficiency of electrodes to a certain extent are achieved. Compared with a conventional titanium substrate, the method can achieve the purposes of saving electrodeposition energy consumption, reducing electrode damage and reducing the replacement cost, and satisfies the industrial application demands for less electrode preparation processes and low cost.
(FR)
La présente invention concerne un procédé d'attaque chimique de substrat pour une anode de type à stabilisation de dimension à base de titane. Dans le procédé d'attaque chimique, une optimisation de la micromorphologie de surface du substrat en titane est obtenue à l'aide d'une méthode d'introduction d'azote. L'effet d'amélioration de la force de liaison d'un substrat et d'un revêtement est obtenu par l'amélioration de la rugosité de surface du substrat et, par conséquent, les objectifs de prolongement efficace de la durée de vie de l'anode de type à stabilisation de dimension à base de titane et d'amélioration de l'efficacité de fonctionnement d'électrodes jusqu'à un certain point sont atteints. Par comparaison avec un substrat en titane classique, le procédé permet d'atteindre les objectifs de diminution de la consommation d'énergie d'électrodéposition, de réduction de l'endommagement d'électrodes et de réduction du coût de remplacement et il satisfait les exigences d'application industrielle pour moins de procédés de préparation d'électrodes et un faible coût.
(ZH)
本发明记载的一种钛基尺寸稳定型阳极的基体刻蚀方法。刻蚀过程中,采用通入氮气的方法实现对钛基体表面微观形貌的优化。通过提升基体表面粗糙度达到增强基体与涂层结合力的作用,从而达到有效延长钛基尺寸稳定型阳极工作寿命,并在一定程度上提升电极工作效率的目的。相较传统钛基体,该方法可实现节约电沉积能耗、减少电极损坏及更换的成本,且满足电极制备工序少成本低廉等工业应用诉求。
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