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1. WO2021001092 - APPAREIL DE TRAITEMENT DE SURFACE ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE DISPOSITIFS DE FORMATION DE MOTIFS ET D'AUTRES SUBSTRATS

Numéro de publication WO/2021/001092
Date de publication 07.01.2021
N° de la demande internationale PCT/EP2020/064806
Date du dépôt international 28.05.2020
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01L 21/67 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
G03F 1/82 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
82Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus
  • BALTUSSEN, Sander
  • BROMAN, Pär, Mårten, Lukas
  • KEMPEN, Antonius, Theodorus, Wilhelmus
  • MOORS, Johannes, Hubertus, Josephina
Mandataires
  • SLENDERS, Petrus
Données relatives à la priorité
19183607.101.07.2019EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SURFACE TREATMENT APPARATUS AND METHOD FOR SURFACE TREATMENT OF PATTERNING DEVICES AND OTHER SUBSTRATES
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SURFACE ET PROCÉDÉ POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE DISPOSITIFS DE FORMATION DE MOTIFS ET D'AUTRES SUBSTRATS
Abrégé
(EN)
Disclosed is a surface treatment apparatus and method for surface treatment of substrates such as wafers or substrates. The surface treatment apparatus comprises one or more support structures for supporting one or more substrates and one or more ultraviolet illumination sources configured to emit ultraviolet illumination, and being operable to treat said at least one surface of said one or more substrates while said one or more substrates being supported by said one or more support structures. The one or more ultraviolet illumination sources are distinct from an exposure source and not operable to emit exposure illumination for exposing a pattern on a wafer.
(FR)
L'invention concerne un appareil de traitement de surface et un procédé pour le traitement de surface de substrats tels que des tranches ou des substrats. L'appareil de traitement de surface comprend une ou plusieurs structures de support pour porter un ou plusieurs substrats et une ou plusieurs sources d'éclairage par ultraviolets configurées pour émettre un éclairage ultraviolet, et étant utilisable pour traiter ladite au moins une surface desdits un ou plusieurs substrats alors que lesdits un ou plusieurs substrats sont portés par lesdites une ou plusieurs structures de support. Lesdites une ou plusieurs sources d'éclairage par ultraviolets sont distinctes d'une source d'exposition et ne sont pas utilisables pour émettre un éclairage d'exposition pour exposer un motif sur une tranche.
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