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1. WO2020243313 - POSTES DE TRAITEMENT À LA VAPEUR POUR SYSTÈME DE POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE

Numéro de publication WO/2020/243313
Date de publication 03.12.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/034936
Date du dépôt international 28.05.2020
CIB
B24B 37/015 2012.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
005Moyens de commande pour machines ou dispositifs de rodage
015Commande de la température
B24B 37/34 2012.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
24MEULAGE; POLISSAGE
BMACHINES, DISPOSITIFS OU PROCÉDÉS POUR MEULER OU POUR POLIR; DRESSAGE OU REMISE EN ÉTAT DES SURFACES ABRASIVES; ALIMENTATION DES MACHINES EN MATÉRIAUX DE MEULAGE, DE POLISSAGE OU DE RODAGE
37Machines ou dispositifs de rodage; Accessoires
34Accessoires
H01L 21/67 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
CPC
B08B 2203/007
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
2203Details of cleaning machines or methods involving the use or presence of liquid or steam
007Heating the liquid
B08B 3/106
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
3Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
04Cleaning involving contact with liquid
10with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity, by vibration
106by boiling the liquid
B24B 37/34
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
24GRINDING; POLISHING
BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING
37Lapping machines or devices; Accessories
34Accessories
H01L 21/67051
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67011Apparatus for manufacture or treatment
67017Apparatus for fluid treatment
67028for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
6704for wet cleaning or washing
67051using mainly spraying means, e.g. nozzles
H01L 21/67248
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
67248Temperature monitoring
Déposants
  • APPLIED MATERIALS, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • WU, Haosheng
  • TANG, Jianshe
  • SOUNDARARAJAN, Hari
  • CHANG, Shou-Sung
  • CHEN, Hui
  • CHOU, Chih Chung
  • FISHER, Alexander John
  • BUTTERFIELD, Paul D.
Mandataires
  • GOREN, David J.
Données relatives à la priorité
62/854,30529.05.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) STEAM TREATMENT STATIONS FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING SYSTEM
(FR) POSTES DE TRAITEMENT À LA VAPEUR POUR SYSTÈME DE POLISSAGE CHIMICO-MÉCANIQUE
Abrégé
(EN)
An apparatus for steam treatment of a carrier head or a substrate in a chemical mechanical polishing system includes a load cup, a pedestal in a cavity defined by the load cup, the pedestal configured to receive a substrate from or supply a substrate to a carrier head, a boiler to generate steam, one or more nozzles positioned to direct steam inwardly into the cavity defined by the load cup, and a supply line running from the boiler to the one or more nozzles to supply steam to the one or more nozzles.
(FR)
L'invention concerne un appareil de traitement à la vapeur d'une tête de support ou d'un substrat dans un système de polissage chimico-mécanique, cet appareil comprenant une coupelle de chargement, un socle se situant dans une cavité définie par la coupelle de chargement, le socle étant conçu pour recevoir un substrat à partir d'une tête de support ou pour fournir un substrat à une tête de support, une chaudière destinée à générer de la vapeur, au moins une buse positionnée pour diriger la vapeur vers l'intérieur dans la cavité définie par la coupelle de charge, et une conduite d'alimentation s'étendant de la chaudière à l'au moins une buse pour fournir de la vapeur à l'au moins une buse.
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