(EN) The purpose of the present invention is to more efficiently use an imaging region of an image sensor. A diffraction element according to an embodiment is a diffraction element (100) having a grating pattern, wherein according to a position of light inputted to the diffraction element from the center on the diffraction element, the shape of the grating pattern at the position is adjusted, thereby adjusting the image formation position of diffracted light corresponding to the position at each wavelength.
(FR) Le but de la présente invention est d'utiliser plus efficacement une région d'imagerie d'un capteur d'image. Un élément de diffraction selon un mode de réalisation est un élément de diffraction (100) ayant un motif de réseau. Selon une position de lumière entrée à l'élément de diffraction à partir du centre sur l'élément de diffraction, la forme du motif de réseau à la position est ajustée, ce qui permet d'ajuster la position de formation d'image de la lumière diffractée correspondant à la position à chaque longueur d'onde.
(JA) イメージセンサの撮像領域をより効率的に使用する。実施形態に係る回折素子は、格子パターンを備える回折素子（１００）であって、前記回折素子に入力される光の前記回折素子上の中心からの位置に応じて、前記位置の格子パターンの形状を調節することにより、波長ごとの前記位置に対応する回折光の結像位置を調節する。
