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1. WO2020239516 - INTERFÉROMÈTRE À AUTORÉFÉRENCE ET DISPOSITIFS D'INTERFÉROMÈTRE À AUTORÉFÉRENCE DOUBLE

Numéro de publication WO/2020/239516
Date de publication 03.12.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/063882
Date du dépôt international 19.05.2020
CIB
G03F 9/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
CPC
G03F 9/7049
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
70for microlithography
7049Technique, e.g. interferometric
G03F 9/7088
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
70for microlithography
7088Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
Déposants
  • ASML HOLDING N.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • CAPPELLI, Douglas, C.
Mandataires
  • ASML NETHERLANDS B.V.
Données relatives à la priorité
62/854,39830.05.2019US
Langue de publication Anglais (en)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) SELF-REFERENCING INTERFEROMETER AND DUAL SELF-REFERENCING INTERFEROMETER DEVICES
(FR) INTERFÉROMÈTRE À AUTORÉFÉRENCE ET DISPOSITIFS D'INTERFÉROMÈTRE À AUTORÉFÉRENCE DOUBLE
Abrégé
(EN) A self-referencing interferometer (SRI) system for an alignment sensor apparatus includes a first prism and a second prism. The first prism has an input surface for an incident beam. The second prism is coupled to the first prism and has an output surface for a recombined beam. The recombined beam includes a first image and a second image rotated by 180 degrees with respect to the first image. The first and second prisms are identical in shape. A dual self-referencing interferometer (DSRI) system for an alignment sensor apparatus includes a first prism assembly having an input surface for a first incident beam and a second incident beam, and a second prism assembly coupled to the first prism assembly and having an output surface for a first recombined beam and a second recombined beam. The first and second prism assemblies are identical in shape.
(FR) La présente invention concerne un système d'interféromètre à autoréférence (SRI) pour appareil de capteur d'alignement qui comprend un premier prisme et un second prisme. Le premier prisme possède une surface d'entrée pour un faisceau incident. Le second prisme est couplé au premier prisme et possède une surface de sortie pour un faisceau recombiné. Le faisceau recombiné comprend une première image et une seconde image ayant subi une rotation de 180 degrés par rapport à la première image. Les premier et second prismes sont de forme identique. Un système d'interféromètre à autoréférence double (DSRI) pour un appareil de capteur d'alignement comprend un premier ensemble prisme ayant une surface d'entrée pour un premier faisceau incident et un second faisceau incident, et un second ensemble prisme couplé au premier ensemble prisme et ayant une surface de sortie pour un premier faisceau recombiné et un second faisceau recombiné. Les premier et second ensembles de prismes sont de forme identique.
Documents de brevet associés
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