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1. WO2020193075 - APPAREIL ET PROCÉDÉ D'ÉLARGISSEMENT DE FRÉQUENCES

Numéro de publication WO/2020/193075
Date de publication 01.10.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/055288
Date du dépôt international 28.02.2020
CIB
G02F 1/355 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
35Optique non linéaire
355caractérisée par les matériaux utilisés
CPC
G02B 6/02328
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
6Light guides
02Optical fibre with cladding ; with or without a coating
02295Microstructured optical fibre
02314Plurality of longitudinal structures extending along optical fibre axis, e.g. holes
02319characterised by core or core-cladding interface features
02323Core having lower refractive index than cladding, e.g. photonic band gap guiding
02328Hollow or gas filled core
G03F 7/70133
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70133Measurement of illumination distribution, in pupil plane or field plane
G03F 7/7015
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
7015Details of optical elements
G03F 7/70316
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70316Details of optical elements, e.g. of Bragg reflectors or diffractive optical elements
G03F 7/70325
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70325Resolution enhancement techniques not otherwise provided for, e.g. darkfield imaging, interfering beams, spatial frequency multiplication, nearfield lens
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • UEBEL, Patrick, Sebastian
  • BAUERSCHMIDT, Sebastian, Thomas
  • SCHOLTES - VAN EIJK, Paul, William
Mandataires
  • WILLEKENS, Jeroen Pieter Frank
Données relatives à la priorité
19164997.925.03.2019EP
19207621.407.11.2019EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) FREQUENCY BROADENING APPARATUS AND METHOD
(FR) APPAREIL ET PROCÉDÉ D'ÉLARGISSEMENT DE FRÉQUENCES
Abrégé
(EN)
An apparatus (100) for receiving input radiation (108) and broadening a frequency range of the input radiation so as to provide broadband output radiation (110). The apparatus comprises a fiber (102), wherein the fiber (102) may comprise a hollow core (104) for guiding radiation propagating through the fiber (102). The apparatus (100) further comprises an apparatus for providing a gas mixture (106) within the hollow core (104). The gas mixture (106) comprises a hydrogen component, and a working component, wherein the working component is for broadening a frequency range of a received input radiation (108) so as to provide the broadband output radiation (110). The apparatus may be included in a radiation source.
(FR)
L'invention concerne un appareil (100) pour recevoir un rayonnement d'entrée (108) et élargir une plage de fréquences du rayonnement d'entrée de façon à fournir un rayonnement de sortie à large bande (110). L'appareil comprend une fibre (102), la fibre (102) pouvant comprendre un noyau creux (104) pour guider un rayonnement se propageant à travers la fibre (102). L'appareil (100) comprend en outre un appareil pour fournir un mélange gazeux (106) à l'intérieur du noyau creux (104). Le mélange gazeux (106) comprend un composant d'hydrogène, et un composant de travail, le composant de travail étant destiné à élargir une plage de fréquences d'un rayonnement d'entrée reçu (108) de façon à fournir le rayonnement de sortie à large bande (110). L'appareil peut être compris dans une source de rayonnement.
Également publié en tant que
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