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1. WO2020181849 - MASQUE TRÈS FIN ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE AMOLED

Numéro de publication WO/2020/181849
Date de publication 17.09.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/123381
Date du dépôt international 05.12.2019
CIB
C23C 14/04 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
04Revêtement de parties déterminées de la surface, p.ex. au moyen de masques
C23C 14/24 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
14Revêtement par évaporation sous vide, pulvérisation cathodique ou implantation d'ions du matériau composant le revêtement
22caractérisé par le procédé de revêtement
24Evaporation sous vide
H01L 51/56 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
51Dispositifs à l'état solide qui utilisent des matériaux organiques comme partie active, ou qui utilisent comme partie active une combinaison de matériaux organiques et d'autres matériaux; Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
50spécialement adaptés pour l'émission de lumière, p.ex. diodes émettrices de lumière organiques (OLED) ou dispositifs émetteurs de lumière à base de polymères (PLED)
56Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de tels dispositifs ou de leurs parties constitutives
CPC
C23C 14/04
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
04Coating on selected surface areas, e.g. using masks
C23C 14/24
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
14Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
22characterised by the process of coating
24Vacuum evaporation
H01L 51/56
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
51Solid state devices using organic materials as the active part, or using a combination of organic materials with other materials as the active part; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices, or of parts thereof
50specially adapted for light emission, e.g. organic light emitting diodes [OLED] or polymer light emitting devices [PLED]
56Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment of such devices or of parts thereof
Déposants
  • 陈鼎国 CHEN, Dinguo [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 陈鼎国 CHEN, Dinguo
Mandataires
  • 北京景闻知识产权代理有限公司 JW & PARTNERS
Données relatives à la priorité
62/816,87211.03.2019US
62/816,87611.03.2019US
62/816,87811.03.2019US
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) MICRO FINE MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR, AND AMOLED DISPLAY DEVICE
(FR) MASQUE TRÈS FIN ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION ET DISPOSITIF D'AFFICHAGE AMOLED
(ZH) 微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED显示器件
Abrégé
(EN)
A micro fine mask and a manufacturing method therefor, and an AMOLED display device. The manufacturing method comprises the following steps: S1, selecting a substrate (10) and cleaning; S2, manufacturing a mask body on the substrate (10), the mask body comprising a debonding layer (20), a first metal coating (30), and a second metal coating (40) which are arranged in sequence, or an organic polymer layer (20), a first metal coating (30), and a second metal coating (40) which are arranged in sequence; and S3, welding a mask frame (50) on the second metal coating (40) and manufacturing multiple micropores passing through the mask body, or manufacturing multiple micropores passing through the mask body and welding a mask frame (50) on the second metal coating (40), thereby obtaining the micro fine mask. The micro fine mask can be used for depositing an organic light emitting device, so as to manufacture an ultra-high-resolution full-color organic light emitting diode (OLED) display device formed by combining light emitting devices of red, green, blue or other colors as sub-pixels.
(FR)
L'invention concerne un masque très fin et son procédé de préparation et un dispositif d’affichage AMOLED. Le procédé de fabrication comprend les étapes suivantes consistant à : S1, sélectionner un substrat (10) et le nettoyer ; S2, fabriquer un corps de masque sur le substrat (10), le corps de masque comprenant une couche de décollement (20), un premier revêtement métallique (30) et un second revêtement métallique (40) qui sont agencés dans l'ordre, ou une couche de polymère organique (20), un premier revêtement métallique (30) et un second revêtement métallique (40) qui sont agencés dans l'ordre ; et S3, souder un cadre de masque (50) sur le second revêtement métallique (40) et fabriquer de multiples micropores traversant le corps de masque, ou fabriquer de multiples micropores traversant le corps de masque et souder un cadre de masque (50) sur le second revêtement métallique (40), ce qui permet d'obtenir le masque très fin. Le masque très fin peut être utilisé pour le dépôt d'un dispositif électroluminescent organique, de façon à fabriquer un dispositif d'affichage à diode électroluminescente organique (DELO) pleine couleur très haute résolution formé par combinaison de dispositifs électroluminescents de couleurs rouge, vert, bleu ou autre en tant que sous-pixels.
(ZH)
一种微型精密掩膜板及其制作方法和AMOLED显示器件,制作方法包括如下步骤:S1、选取基板(10)并进行清洗;S2、在基板(10)上制作掩膜板本体,所述掩膜板本体包括依次设置的离形层(20)、第一金属镀膜(30)与第二金属镀膜(40),或依次设置的有机高分子层(20)、第一金属镀膜(30)与第二金属镀膜(40);S3、在第二金属镀膜(40)上焊接掩膜板框架(50),并制作贯穿掩膜板本体的多个微孔,或制作贯穿掩膜板本体的多个微孔并在第二金属镀膜(40)上焊接掩膜板框架(50);获得微型精密掩膜板。微型精密掩膜板可蒸镀有机发光器件,制作出以红绿蓝或其它颜色发光器件为子画素设计组合而成的超高分辨率全彩有机发光二极体(OLED)显示器件。
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