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1. WO2020166237 - MICROSTRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICROSTRUCTURE

Numéro de publication WO/2020/166237
Date de publication 20.08.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2020/000462
Date du dépôt international 09.01.2020
CIB
C25D 11/26 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
25PROCÉDÉS ÉLECTROLYTIQUES OU ÉLECTROPHORÉTIQUES; APPAREILLAGES À CET EFFET
DPROCÉDÉS POUR LA PRODUCTION ÉLECTROLYTIQUE OU ÉLECTROPHORÉTIQUE DE REVÊTEMENTS; GALVANOPLASTIE; JONCTION DE PIÈCES PAR ÉLECTROLYSE; APPAREILLAGES À CET EFFET
11Revêtement électrolytique par réaction de surface, c. à d. par formation de couches de conversion
02Anodisation
26de métaux réfractaires ou de leurs alliages
B82Y 30/00 2011.1
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
82NANOTECHNOLOGIE
YUTILISATION OU APPLICATIONS SPÉCIFIQUES DES NANOSTRUCTURES; MESURE OU ANALYSE DES NANOSTRUCTURES; FABRICATION OU TRAITEMENT DES NANOSTRUCTURES
30Nanotechnologie pour matériaux ou science des surfaces, p.ex. nanocomposites
CPC
B82Y 30/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
30Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
C25D 11/26
CCHEMISTRY; METALLURGY
25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
11Electrolytic coating by surface reaction, i.e. forming conversion layers
02Anodisation
26of refractory metals or alloys based thereon
Déposants
  • 富士フイルム株式会社 FUJIFILM CORPORATION [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 川口 順二 KAWAGUCHI Junji
Mandataires
  • 伊東 秀明 ITOH Hideaki
  • 三橋 史生 MITSUHASHI Fumio
Données relatives à la priorité
2019-02443314.02.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) MICROSTRUCTURE AND METHOD FOR MANUFACTURING MICROSTRUCTURE
(FR) MICROSTRUCTURE ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE MICROSTRUCTURE
(JA) 微細構造体および微細構造体の製造方法
Abrégé
(EN)
Provided are: a microstructure which has micropores having excellent straightness; and a method for manufacturing a microstructure. The microstructure is composed of an anodic oxide film of titanium or a titanium alloy. The microstructure has a plurality of micropores that penetrate through the anodic oxide film in the thickness direction, wherein, when the micropore density in the front surface of the anodic oxide film is defined as A and the micropore density in the rear surface of the anodic oxide film is defined as B, the ratio of the micropore density A in the front surface to the micropore density B in the rear surface, i.e., A/B, is 80 to 120% inclusive.
(FR)
L'invention concerne : une microstructure qui présente des micropores présentant une excellente linéarité ; et un procédé de fabrication d'une microstructure. La microstructure est composée d'un film d'oxyde anodique de titane ou d'un alliage de titane. La microstructure comporte une pluralité de micropores qui pénètrent dans le film d'oxyde anodique dans le sens de l'épaisseur, lorsque la densité des micropores dans la surface avant du film d'oxyde anodique est définie comme étant A et que la densité des micropores dans la surface arrière du film d'oxyde anodique est définie comme étant B, le rapport entre la densité des micropores A dans la surface avant et la densité des micropores B dans la surface arrière, c'est-à-dire A/B, est compris entre 80 et 120 % inclus.
(JA)
直管性に優れたマイクロポアを有する微細構造体および微細構造体の製造方法を提供する。微細構造体はチタンまたはチタン合金の陽極酸化膜により構成される。微細構造体は陽極酸化膜の厚み方向に貫通する、複数のマイクロポアを有し、陽極酸化膜の表面のマイクロポアの密度をAとし、陽極酸化膜の裏面のマイクロポアの密度をBとするとき、表面のマイクロポアの密度Aと裏面のマイクロポアの密度Bとの比率A/Bが80%以上120%以下である。
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