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1. WO2020165448 - MÉTASURFACES OPTIQUES, PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE FABRICATION ASSOCIÉS

Numéro de publication WO/2020/165448
Date de publication 20.08.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/053988
Date du dépôt international 14.02.2020
CIB
G02B 1/00 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
C03C 23/00 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
23Autres traitements de surface du verre, autre que sous forme de fibres ou de filaments
G02B 1/12 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
1Eléments optiques caractérisés par la substance dont ils sont faits; Revêtements optiques pour éléments optiques
10Revêtements optiques obtenus par application sur les éléments optiques ou par traitement de la surface de ceux-ci
12par traitement de la surface, p.ex. par irradiation
G02B 5/18 2006.1
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
CPC
C03C 17/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
02with glass
C03C 17/23
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
22with other inorganic material
23Oxides
C03C 17/32
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
17Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
28with organic material
32with synthetic or natural resins
C03C 2218/328
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
30Aspects of methods for coating glass not covered above
32After-treatment
328Partly or completely removing a coating
C03C 2218/34
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
2218Methods for coating glass
30Aspects of methods for coating glass not covered above
34Masking
C03C 23/0025
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
23Other surface treatment of glass not in the form of fibres or filaments
0005by irradiation
0025by a laser beam
Déposants
  • UNIVERSITÉ D'AIX-MARSEILLE [FR]/[FR]
  • CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE
  • ECOLE CENTRALE DE MARSEILLE [FR]/[FR]
  • MULTIWAVE INNOVATION [FR]/[FR]
Inventeurs
  • MIKHEEVA, Elena
  • ABDEDDAIM, Redha
  • ENOCH, Stefan
  • LUMEAU, Julien
  • VOZNYUK, Ivan
  • ANTONAKAKIS, Tryfon
Mandataires
  • OSHA LIANG
Données relatives à la priorité
190157015.02.2019FR
Langue de publication français (FR)
Langue de dépôt français (FR)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL METASURFACES, AND ASSOCIATED MANUFACTURING METHODS AND SYSTEMS
(FR) MÉTASURFACES OPTIQUES, PROCÉDÉS ET SYSTÈMES DE FABRICATION ASSOCIÉS
Abrégé
(EN)
The present invention concerns a method (100) for manufacturing an optical metasurface configured to operate in a given spectral band of use. The method comprises: obtaining (110) a 2D array (220) of patterns each comprising one or more nanostructures forming resonant dielectric elements (222) resonating in the spectral band of use, the nanostructures being formed in at least one photosensitive dielectric medium, the at least one photosensitive dielectric material having a refractive index that can be varied by exposing same to at least one electromagnetic writing wave having a wavelength within a photosensitivity spectral band; exposing (120) the 2D array to an electromagnetic writing wave having at least one wavelength within the photosensitivity spectral band, the writing wave having, in a plane of the 2D array, a spatial energy distribution that is a function of a desired phase profile such that, following the exposure, each pattern of the 2D array produces, on an incident electromagnetic wave having a wavelength within the spectral band of use, a phase variation corresponding to a variation in refractive index experienced by the pattern during the exposure.
(FR)
La présente invention concerne un procédé de fabrication (100) d'une métasurface optique configurée pour fonctionner dans une bande spectrale d'utilisation donnée. Le procédé comprend : l'obtention (110) d'une matrice 2D (220) de motifs comprenant chacun une ou plusieurs nanostructures formant des éléments diélectriques résonants (222) dans ladite bande spectrale d'utilisation, lesdites nanostructures étant formées dans au moins un milieu diélectrique photosensible, ledit au moins un matériau diélectrique photosensible présentant un indice de réfraction variable par exposition à au moins une onde électromagnétique d'inscription ayant une longueur d'onde comprise dans une bande spectrale de photosensibilité; l'exposition (120) de ladite matrice 2D à une onde électromagnétique d'inscription ayant au moins une longueur d'onde dans ladite bande spectrale de photosensibilité, ladite onde d'inscription présentant dans un plan de la matrice 2D une distribution spatiale d'énergie fonction d'un profil de phase recherché de sorte que, suite à ladite exposition, chaque motif de la matrice 2D produit sur une onde électromagnétique incidente ayant une longueur d'onde dans la bande spectrale d'utilisation, une variation de phase correspondant à une variation d'indice de réfraction subie par ledit motif lors de ladite exposition.
Également publié en tant que
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