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1. WO2020163434 - DISPOSITIF DE CHAUFFAGE À NITRURE D'ALUMINIUM ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2020/163434
Date de publication 13.08.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/016725
Date du dépôt international 05.02.2020
CIB
H05K 1/02 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
KCIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
1Circuits imprimés
02Détails
H05B 3/26 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
3Chauffage par résistance ohmique
20Eléments chauffants ayant une surface s'étendant essentiellement dans deux dimensions, p.ex. plaques chauffantes
22non flexibles
26le conducteur chauffant monté sur une base isolante
H05B 3/14 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
BCHAUFFAGE ÉLECTRIQUE; ÉCLAIRAGE ÉLECTRIQUE NON PRÉVU AILLEURS
3Chauffage par résistance ohmique
10Eléments chauffants caractérisés par la composition ou la nature des matériaux ou par la disposition du conducteur
12caractérisés par la composition ou la nature du matériau conducteur
14le matériau étant non métallique
G03G 15/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
GÉLECTROGRAPHIE; ÉLECTROPHOTOGRAPHIE; MAGNÉTOGRAPHIE
15Appareils pour procédés électrographiques utilisant un dessin de charge
20pour le fixage, p.ex. par la chaleur
H01L 21/67 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
CPC
G03G 15/2039
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
15Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
20for fixing, e.g. by using heat
2003using heat
2014using contact heat
2039with means for controlling the fixing temperature
G03G 15/2057
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
15Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
20for fixing, e.g. by using heat
2003using heat
2014using contact heat
2053Structural details of heat elements, e.g. structure of roller or belt, eddy current, induction heating
2057relating to the chemical composition of the heat element and layers thereof
H01C 17/30
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
CRESISTORS
17Apparatus or processes specially adapted for manufacturing resistors
30adapted for baking
H05B 2203/01
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
2203Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
009Heaters using conductive material in contact with opposing surfaces of the resistive element or resistive layer
01Heaters comprising a particular structure with multiple layers
H05B 2203/013
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
2203Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
013Heaters using resistive films or coatings
H05B 2203/017
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHTING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
2203Aspects relating to Ohmic resistive heating covered by group H05B3/00
017Manufacturing methods or apparatus for heaters
Déposants
  • LEXMARK INTERNATIONAL, INC. [US]/[US]
Inventeurs
  • AOKI, Makoto
  • SMITH, Jerry, Wayne
Mandataires
  • SANDERSON, Michael, T.
Données relatives à la priorité
62/802,93908.02.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) ALUMINUM NITRIDE HEATER AND METHODS OF MAKING SAME
(FR) DISPOSITIF DE CHAUFFAGE À NITRURE D'ALUMINIUM ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
Abrégé
(EN)
A heater and methods of making include an aluminum nitride base having equal to or less than 1% impurities, particularly none of polybrominated biphenyl, polybrominated diphenyl ether, hexabromocyclododecane, polyvinyl chloride, chlorinated paraffin, phthalate, cadmium, hexavalent chromium, lead, and mercury. At least one resistive trace of silver and palladium overlies the base as does a conductor of silver and platinum or palladium that electrically connects to the resistive trace to apply an external voltage to the resistive trace for heating thereof. At least four, but optionally five, layers of glass overlie the resistive trace and part of the conductor. A first two consecutive layers of the glass layers define a first glass having a solid content of more than 65% and a viscosity of 100 Pa · s or less. The following two or three consecutive layers of the five layers define a second glass dissimilar to the first.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de chauffage et des procédés de fabrication qui comprennent une base de nitrure d'aluminium ayant une teneur égale ou inférieure à 1 % d'impuretés, en particulier pas de biphényle polybromé, de polybromodiphényléthers, de hexabromocyclododécane, de polychlorure de vinyle, de paraffine chlorée, de phtalate, de cadmium, de chrome hexavalent, de plomb et de mercure. Au moins une trace résistive d'argent et de palladium recouvre la base comme étant un conducteur d'argent et de platine ou de palladium qui se connecte électriquement à la trace résistive pour appliquer une tension externe à la trace résistive pour la chauffer. Au moins quatre, mais facultativement cinq, couches de verre recouvrent la trace résistive et une partie du conducteur. Les deux premières couches consécutives des couches de verre définissent un premier verre ayant une teneur en solides supérieure à 65 % et une viscosité de 100 Pa·s ou moins. Les deux ou trois couches consécutives suivantes des cinq couches définissent un second verre différent du premier.
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