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1. WO2020163334 - FORMULATION DURCISSABLE À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ, ET SON APPLICATION DANS UN RÉSEAU À RELIEF DE SURFACE PAR LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION

Numéro de publication WO/2020/163334
Date de publication 13.08.2020
N° de la demande internationale PCT/US2020/016584
Date du dépôt international 04.02.2020
CIB
G03F 7/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
CPC
B82Y 30/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
30Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
B82Y 40/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
40Manufacture or treatment of nanostructures
C08L 63/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
63Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
C09D 11/101
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
11Inks
02Printing inks
10based on artificial resins
101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
C09D 163/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
163Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
G03F 7/0002
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
Déposants
  • FACEBOOK TECHNOLOGIES, LLC [US]/[US]
Inventeurs
  • PERLMUTTER, Zachary
  • VORA, Ankit
  • LANE, Austin
  • CALAFIORE, Giuseppe
  • COLBURN, Matthew, E.
  • RAO, Tingling
Mandataires
  • MOON, William, A.
  • THOMAS, Daniel, A.
Données relatives à la priorité
16/778,49231.01.2020US
16/779,44631.01.2020US
62/801,55405.02.2019US
62/968,05730.01.2020US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) CURABLE FORMULATION WITH HIGH REFRACTIVE INDEX AND ITS APPLICATION IN SURFACE RELIEF GRATING USING NANOIMPRINTING LITHOGRAPHY
(FR) FORMULATION DURCISSABLE À INDICE DE RÉFRACTION ÉLEVÉ, ET SON APPLICATION DANS UN RÉSEAU À RELIEF DE SURFACE PAR LITHOGRAPHIE PAR NANO-IMPRESSION
Abrégé
(EN)
Disclosed herein is a nanoimprint lithography (NIL) precursor material comprising a base resin component having a first refractive index ranging from 1.45 to 1.80, and a nanoparticles component having a second refractive index greater than the first refractive index of the base resin component. According to certain embodiments, further disclosed herein are a cured NIL material made by curing the NIL precursor material, a NIL grating comprising the cured NIL material, an optical component comprising the NIL grating, and methods for forming the NIL grating and the optical component using a NIL process.
(FR)
L'invention concerne un matériau précurseur de lithographie par nano-impression (NIL) comprenant un composant de résine de base ayant un premier indice de réfraction allant de 1,45 à 1,80, et un composant de nanoparticules ayant un second indice de réfraction supérieur au premier indice de réfraction du composant de résine de base. Selon certains modes de réalisation, l'invention concerne en outre un matériau NIL durci obtenu par durcissement du matériau précurseur NIL, un réseau NIL comprenant le matériau NIL durci, un composant optique comprenant le réseau NIL, et des procédés de formation du réseau NIL et du composant optique à l'aide d'un procédé NIL.
Également publié en tant que
EP2020709047
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