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1. WO2020162604 - VERRE SANS ALCALI

Numéro de publication WO/2020/162604
Date de publication 13.08.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2020/004847
Date du dépôt international 07.02.2020
CIB
C03C 3/091 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
3Compositions pour la fabrication du verre
04contenant de la silice
076avec 40 à 90% en poids de silice
089contenant du bore
091contenant de l'aluminium
C03C 3/097 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
3Compositions pour la fabrication du verre
04contenant de la silice
076avec 40 à 90% en poids de silice
097contenant du phosphore, du niobium ou du tantale
C03C 3/112 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
03VERRE; LAINE MINÉRALE OU DE SCORIES
CCOMPOSITION CHIMIQUE DES VERRES, GLAÇURES OU ÉMAUX VITREUX; TRAITEMENT DE LA SURFACE DU VERRE; TRAITEMENT DE SURFACE DES FIBRES OU FILAMENTS DE VERRE, DE SUBSTANCES MINÉRALES OU DE SCORIES; LIAISON DU VERRE AU VERRE OU À D'AUTRES MATÉRIAUX
3Compositions pour la fabrication du verre
04contenant de la silice
076avec 40 à 90% en poids de silice
11contenant un halogène ou de l'azote
112contenant du fluor
G11B 5/73 2006.1
GPHYSIQUE
11ENREGISTREMENT DE L'INFORMATION
BENREGISTREMENT DE L'INFORMATION BASÉ SUR UN MOUVEMENT RELATIF ENTRE LE SUPPORT D'ENREGISTREMENT ET LE TRANSDUCTEUR
5Enregistrement par magnétisation ou démagnétisation d'un support d'enregistrement; Reproduction par des moyens magnétiques; Supports d'enregistrement correspondants
62Supports d'enregistrement caractérisés par l'emploi d'un matériau spécifié
73Couches de base
G03F 1/60 2012.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
60Substrats
H01Q 1/38 2006.1
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
QANTENNES, c. à d. ANTENNES RADIO
1Détails de dispositifs associés aux antennes
36Forme structurale pour éléments rayonnants, p.ex. cône, spirale, parapluie
38formés par une couche conductrice sur un support isolant
CPC
C03C 3/091
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
089containing boron
091containing aluminium
C03C 3/097
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
097containing phosphorus, niobium or tantalum
C03C 3/112
CCHEMISTRY; METALLURGY
03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
3Glass compositions
04containing silica
076with 40% to 90% silica, by weight
11containing halogen or nitrogen
112containing fluorine
G02F 1/1333
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
1333Constructional arrangements; ; Manufacturing methods
G03F 1/60
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
60Substrates
G11B 5/73
GPHYSICS
11INFORMATION STORAGE
BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
5Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
62Record carriers characterised by the selection of the material
73Base layers ; , i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
Déposants
  • AGC株式会社 AGC INC. [JP]/[JP]
Inventeurs
  • ▲徳▼永 博文 TOKUNAGA Hirofumi
  • 小野 和孝 ONO Kazutaka
Mandataires
  • 特許業務法人栄光特許事務所 EIKOH PATENT FIRM, P.C.
Données relatives à la priorité
2019-02025707.02.2019JP
2019-05157019.03.2019JP
2019-14142231.07.2019JP
2019-18680510.10.2019JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) ALKALI-FREE GLASS
(FR) VERRE SANS ALCALI
(JA) 無アルカリガラス
Abrégé
(EN)
The present invention relates to alkali-free glass comprising, in mol% in terms of oxides, 63-69% SiO2, 8-13% Al2O3, 0.5-4% B2O3, 8-15% MgO, 4-12% CaO, 0-4.5% SrO, and 0-1% BaO, wherein the ratio [MgO]/[CaO] is 0.67-3.75, formula (A) returns a value of 84 or greater, formula (B) returns a value of 715 or less, formula (C) returns a value of 200 or less, and formula (D) returns a value of 15 or less.
(FR)
La présente invention concerne un verre sans alcali comprenant, en pourcentage en moles en termes d'oxydes, 63 % à 69% de SiO2, 8 % à 13% de Al2O3, 0,5 % à 4% de B2O3, 8 à 15% de MgO, 4 % à 12% de CaO, 0 % à 4,5% de SrO et 0 % à 1% de BaO, le rapport [MgO]/[CaO] étant de 0,67 à 3,75. La formule (A) renvoie une valeur de 84 ou plus, la formule (B) renvoie une valeur de 715 ou moins, la formule (C) renvoie une valeur de 200 ou moins et la formule (D) renvoie une valeur de 15 ou moins.
(JA)
本発明は、酸化物基準のモル%表示でSiO2 63~69%、Al23 8~13%、B23 0.5~4%、MgO 8~15%、CaO 4~12%、SrO 0~4.5%、BaO 0~1%を含み、[MgO]/[CaO]が0.67~3.75であり、式(A)の値が84以上、式(B)の値が715以下、式(C)の値が200以下、式(D)の値が15以下である無アルカリガラスに関する。
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international