Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020161072 - PROCÉDÉ DE FABRICATION DE POINTS QUANTIQUES

Numéro de publication WO/2020/161072
Date de publication 13.08.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/052610
Date du dépôt international 03.02.2020
CIB
C09K 11/66 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
KSUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
08contenant des substances inorganiques luminescentes
66contenant du germanium, de l'étain ou du plomb
C09K 11/59 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
KSUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
08contenant des substances inorganiques luminescentes
59contenant du silicium
C09K 11/02 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
09COLORANTS; PEINTURES; PRODUITS À POLIR; RÉSINES NATURELLES; ADHÉSIFS; COMPOSITIONS NON PRÉVUES AILLEURS; UTILISATIONS DE SUBSTANCES, NON PRÉVUES AILLEURS
KSUBSTANCES POUR DES APPLICATIONS NON PRÉVUES AILLEURS; APPLICATIONS DE SUBSTANCES NON PRÉVUES AILLEURS
11Substances luminescentes, p.ex. électroluminescentes, chimiluminescentes
02Emploi de substances particulières comme liants, revêtements de particules ou milieux de suspension
CPC
C09K 11/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
11Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
C09K 11/59
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
11Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
08containing inorganic luminescent materials
59containing silicon
C09K 11/66
CCHEMISTRY; METALLURGY
09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
11Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
08containing inorganic luminescent materials
66containing germanium, tin or lead
Déposants
  • UNIVERSITEIT VAN AMSTERDAM [NL]/[NL]
  • UNIVERSITEIT TWENTE [NL]/[NL]
Inventeurs
  • NIE, Hui
  • NEWELL, Katerina
  • PAULUSSE, Jos Marie Johannes
Mandataires
  • DE VRIES & METMAN
Données relatives à la priorité
19156015.007.02.2019EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) PROCESS FOR MANUFACTURING QUANTUM DOTS
(FR) PROCÉDÉ DE FABRICATION DE POINTS QUANTIQUES
Abrégé
(EN)
The invention pertains to a process for manufacturing silicon or germanium quantum dots which process comprises the steps of reacting a Zintl salt or intermetallie compound of post-transition metals or metalloids of silicon or germanium with a halogen-containing oxidizing agent to form halide-terminated silicon or germanium quantum dots; subjecting the halide-terminated silicon or germanium quantum dots to a reduction step by reaction with a reducing agent, to form hydride-terminated silicon or germanium quantum dots; and subjecting the hydride-terminated silicon or germanium quantum dots to, respectively, a hydrosilylation reaction or hydrogermylation reaction with a passivating agent, to form passivated silicon or germanium quantum dots. The process according to the invention makes it possible to obtain quantum dots with a high quantum yield. The invention also pertains to silicon or germanium quantum dots with a quantum yield of at least 20% at an excitation wavelength of 350 nm, and/or at least 15% at 370 nm.
(FR)
L'invention concerne un procédé de fabrication de points quantiques de silicium ou de germanium, lequel procédé comprend les étapes consistant à faire réagir un sel de Zintl ou un composé intermétallique de métaux de post-transition ou de métalloïdes de silicium ou de germanium avec un agent oxydant contenant de l'halogène afin de former des points quantiques de silicium ou de germanium à terminaison halogénure; à soumettre les points quantiques de silicium ou de germanium à terminaison halogénure à une étape de réduction par réaction avec un agent réducteur, afin de former des points quantiques de silicium ou de germanium à terminaison hydrure; et à soumettre les points quantiques de silicium ou de germanium à terminaison hydrure, respectivement, à une réaction d'hydrosilylation ou à une réaction d'hydrogermylation avec un agent de passivation, afin de former des points quantiques de silicium ou de germanium passivés. Le procédé selon l'invention permet d'obtenir des points quantiques présentant un rendement quantique élevé. L'invention concerne également des points quantiques de silicium ou de germanium ayant un rendement quantique d'au moins 20 % à une longueur d'onde d'excitation de 350 nm, et/ou d'au moins 15 % à 370 nm.
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international