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1. WO2020156975 - DÉTERMINATION DES PROPRIÉTÉS DE DÉPLACEMENT D'UNE CIBLE DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME

Numéro de publication WO/2020/156975
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2020/051867
Date du dépôt international 27.01.2020
CIB
H05G 2/00 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • RAFAC, Robert, Jay
Mandataires
  • SLENDERS, Petrus Johannes Waltherus
Données relatives à la priorité
62/798,72530.01.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) DETERMINING MOVING PROPERTIES OF A TARGET IN AN EXTREME ULTRAVIOLET LIGHT SOURCE
(FR) DÉTERMINATION DES PROPRIÉTÉS DE DÉPLACEMENT D'UNE CIBLE DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE ULTRAVIOLETTE EXTRÊME
Abrégé
(EN)
An apparatus includes: a diagnostic system configured to diagnostically interact with a current target (110c) traveling along a trajectory (TR) and before the current target enters a target space; a first detection apparatus (120) configured to detect first light; a second detection apparatus (130) configured to detect second light; and a control system (150) in communication with the first and second detection apparatuses. The first light includes: light (140) produced from an interaction between the current target and the diagnostic system, and light (142) emitted from a plasma produced by a previous target. The second light includes the light (142) emitted from the plasma produced by the previous target. The control system (150) is configured to: produce an analysis signal based on first and second signals produced from respective outputs of the first and second detection apparatuses; and estimate a property of the current target based on the produced analysis signal.
(FR)
Un appareil comprend : un système de diagnostic configuré pour interagir de manière diagnostique avec une cible actuelle (110c) se déplaçant le long d'une trajectoire (TR) et avant que la cible actuelle ne pénètre dans un espace cible ; un premier appareil de détection (120) configuré pour détecter une première lumière ; un second appareil de détection (130) configuré pour détecter une seconde lumière ; et un système de commande (150) en communication avec les premier et second appareils de détection. La première lumière comprend : de la lumière (140) produite à partir d'une interaction entre la cible actuelle et le système de diagnostic, et de la lumière (142) émise à partir d'un plasma produit par une cible précédente. La seconde lumière comprend la lumière (142) émise à partir du plasma produit par la cible précédente. Le système de commande (150) est configuré pour : produire un signal d'analyse sur la base de premier et second signaux produits à partir des sorties respectives des premier et second appareils de détection ; et estimer une propriété de la cible actuelle sur la base du signal d'analyse produit.
Également publié en tant que
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