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1. WO2020156274 - APPAREIL D'ALIGNEMENT OPTIQUE ET SYSTÈME DE PHOTOGRAVURE

Numéro de publication WO/2020/156274
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2020/072958
Date du dépôt international 19.01.2020
CIB
G03F 9/00 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
9Mise en registre ou positionnement d'originaux, de masques, de trames, de feuilles photographiques, de surfaces texturées, p.ex. automatique
G03F 7/20 2006.1
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/20
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
G03F 7/70775
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70691Handling of masks or wafers
70775Position control
G03F 7/7085
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7085Detection arrangement, e.g. detectors of apparatus alignment possibly mounted on wafers, exposure dose, photo-cleaning flux, stray light, thermal load
G03F 9/00
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
G03F 9/7069
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
9Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
70for microlithography
7069Alignment mark illumination, e.g. darkfield, dual focus
Déposants
  • 上海微电子装备(集团)股份有限公司 SHANGHAI MICRO ELECTRONICS EQUIPMENT (GROUP) CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 孙建超 SUN, Jianchao
Mandataires
  • 上海思捷知识产权代理有限公司 SHANGHAI SAVVY IP AGENCY CO., LTD.
Données relatives à la priorité
201910100238.431.01.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL ALIGNMENT APPARATUS AND PHOTOETCHING SYSTEM
(FR) APPAREIL D'ALIGNEMENT OPTIQUE ET SYSTÈME DE PHOTOGRAVURE
(ZH) 光学对准装置及光刻系统
Abrégé
(EN)
Provided are an optical alignment apparatus and a photoetching system, which can be compatible with alignment and scanning of narrow marks, and can effectively improve scanning signal energy of the marks, suppress optical crosstalk between the marks and between a mark and a photoetching line, and improve the alignment accuracy. Furthermore, a light beam modulation element in an imaging unit comprises a plurality of sub-components correspondingly provided at the positions of light-transmitting regions, except for regions for transmitting ±1-order diffraction light beams of a diffraction grating, of a light beam restriction element on a one-to-one basis, and the sub-components can eliminate interference of zero-order light and stray light, thereby further improving the scanning signal energy of the marks, and improving the alignment accuracy.
(FR)
L'invention concerne un appareil d'alignement optique et un système de photogravure qui peuvent être compatibles avec l'alignement et le balayage de marques étroites et qui peuvent améliorer efficacement l'énergie de signal de balayage des marques, supprimer la diaphonie optique entre les marques et entre une marque et une ligne de photogravure, et améliorer la précision d'alignement. De plus, un élément de modulation de faisceau lumineux dans une unité d'imagerie comprend une pluralité de sous-composants disposés de manière correspondante au niveau des positions de régions de transmission de lumière, à l'exception de régions destinées à transmettre des faisceaux lumineux de diffraction d'ordre ±1 d'un réseau de diffraction d'un élément de restriction de faisceau lumineux sur une base univoque, et les sous-composants peuvent éliminer l'interférence de la lumière d'ordre zéro et de la lumière parasite, améliorant ainsi davantage l'énergie de signal de balayage des marques et améliorant la précision d'alignement.
(ZH)
本发明提供了一种光学对准装置和光刻系统,可以兼容窄标记的对准扫描,能够有效提高标记的扫描信号能量,抑制标记与标记、标记与光刻线条之间的光串扰,提高对准精度。进一步地,所述成像单元中的光束调制元件包括多个一一对应地设置在所述光束限制元件的除通过所述衍射光栅的±1级衍射光束以外的通光区域位置上的子部件,可以消除零级光和杂散光的干扰,进一步提高标记的扫描信号能量,提高对准精度。
Également publié en tant que
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