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1. WO2020155827 - PROCÉDÉ D'AMÉLIORATION DES PERFORMANCES DE SOURCE DE PLASMA ECR

Numéro de publication WO/2020/155827
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/121583
Date du dépôt international 28.11.2019
CIB
H05H 1/46 2006.1
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
46utilisant des champs électromagnétiques appliqués, p.ex. de l'énergie à haute fréquence ou sous forme de micro-ondes
CPC
H05H 1/46
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
24Generating plasma
46using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
Déposants
  • 北京工业大学 BEIJING UNIVERSITY OF TECHNOLOGY [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 王波 WANG, Bo
  • 张天一 ZHANG, Tianyi
  • 吕广宏 LU, Guanghong
Mandataires
  • 北京思海天达知识产权代理有限公司 BEIJING SIHAI TIANDA INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY LTD.
Données relatives à la priorité
201910078140.328.01.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR ENHANCING PERFORMANCE OF ECR PLASMA SOURCE
(FR) PROCÉDÉ D'AMÉLIORATION DES PERFORMANCES DE SOURCE DE PLASMA ECR
(ZH) 一种增强ECR等离子体源性能的方法
Abrégé
(EN)
A method for enhancing the performance of an ECR plasma source, relating to the application field of low-temperature plasma sources. The original source of space electrons is a small quantity of free electrons in a resonance region of existing ECR, electrons generated by gas ionization are source of the electrons when plasma discharge is formed, the electron density is limited when equilibrium is achieved, and the improvement of plasma parameters is restricted. On the basis of an existing ECR plasma source, the method uses a thermionic cathode (5) to generate a lot of thermal electrons, and the thermal electrons enter a resonance space under the control of an electric field passing through the resonance region, so that the electron density of the resonance region is improved. Because the electron density of the resonance region is improved, the ECR ionization efficiency is further enhanced, and performance indexes such as the beam density of the ECR plasma source are improved.
(FR)
L'invention concerne un procédé d'amélioration des performances d'une source de plasma ECR, se rapportant au domaine d'application des sources de plasma à basse température. La source originale d'électrons spatiaux est une petite quantité d'électrons libres dans une région de résonance de ECR existant, des électrons générés par ionisation de gaz sont une source des électrons lorsqu'une décharge de plasma est formée, la densité d'électrons est limitée lorsque l'équilibre est atteint, et l'amélioration des paramètres de plasma est limitée. Sur la base d'une source de plasma ECR existante, le procédé utilise une cathode thermoionique (5) pour générer un lot d'électrons thermiques, et les électrons thermiques entrent dans un espace de résonance sous la commande d'un champ électrique passant à travers la région de résonance, de telle sorte que la densité d'électrons de la région de résonance est améliorée. Étant donné que la densité d'électrons de la région de résonance est améliorée, l'efficacité d'ionisation ECR est encore améliorée, et des indices de performance tels que la densité de faisceau de la source de plasma ECR sont améliorés.
(ZH)
一种增强ECR等离子体源性能的方法,属于低温等离子体源应用领域。现有ECR的共振区中,空间电子的原始来源是少量游离电子,形成等离子体放电时其电子来源于气体电离产生的电子,平衡时其电子密度有限,限制了等离子体参数的提高。在现有ECR等离子体源基础上,该方法利用热阴极(5)产生大量热电子,并在穿过共振区的电场控制下进入共振空间,从而提高了共振区的电子密度。由于共振区的电子密度提高,将进一步增强ECR电离效率,提高ECR等离子体源的束流密度等性能指标。
Également publié en tant que
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