Traitement en cours

Veuillez attendre...

PATENTSCOPE sera indisponible durant quelques heures pour des raisons de maintenance le mardi 27.07.2021 à 12:00 PM CEST
Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020155819 - PROCÉDÉ DE CARACTÉRISATION DE DÉFAUTS DANS UN MATÉRIAU BIDIMENSIONNEL ET SON APPLICATION

Numéro de publication WO/2020/155819
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/121186
Date du dépôt international 27.11.2019
CIB
G01N 21/64 2006.1
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
NRECHERCHE OU ANALYSE DES MATÉRIAUX PAR DÉTERMINATION DE LEURS PROPRIÉTÉS CHIMIQUES OU PHYSIQUES
21Recherche ou analyse des matériaux par l'utilisation de moyens optiques, c. à d. en utilisant des rayons infrarouges, visibles ou ultraviolets
62Systèmes dans lesquels le matériau analysé est excité de façon à ce qu'il émette de la lumière ou qu'il produise un changement de la longueur d'onde de la lumière incidente
63excité optiquement
64Fluorescence; Phosphorescence
CPC
G01N 21/64
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
21Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
62Systems in which the material investigated is excited whereby it emits light or causes a change in wavelength of the incident light
63optically excited
64Fluorescence; Phosphorescence
Déposants
  • 清华大学 TSINGHUA UNIVERSITY [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 刘大猛 LIU, Dameng
  • 刘欢 LIU, Huan
  • 王冲 WANG, Chong
  • 雒建斌 LUO, Jianbin
Mandataires
  • 北京路浩知识产权代理有限公司 CN-KNOWHOW INTELLECTUAL PROPERTY AGENT LIMITED
Données relatives à la priorité
201910101478.631.01.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) METHOD FOR CHARACTERIZING DEFECT IN TWO-DIMENSIONAL MATERIAL AND APPLICATION THEREOF
(FR) PROCÉDÉ DE CARACTÉRISATION DE DÉFAUTS DANS UN MATÉRIAU BIDIMENSIONNEL ET SON APPLICATION
(ZH) 表征二维材料缺陷的方法及其应用
Abrégé
(EN)
A method for characterizing a defect in a two-dimensional material and application thereof, relating to the technical field of the characterization of defects in nanomaterias. The method for characterizing a defect comprises: respectively and independently performing fluorescence lifetime imaging on a non-defective two-dimensional material substrate sample and a two-dimensional material substrate sample to be detected, and determining, according to a change of a fluorescence lifetime, whether there is a defect, wherein if the fluorescence lifetime of the two-dimensional material substrate sample to be detected is higher than the fluorescence lifetime of the non-defective two-dimensional material substrate sample, the two-dimensional material substrate sample to be detected is a defective sample, and if the fluorescence lifetime of the two-dimensional material substrate sample to be detected has no obvious change as compared with the fluorescence lifetime of the non-defective two-dimensional material substrate sample, the two-dimensional material substrate sample to be detected is a non-defective sample. The method characterizes a defect in a two-dimensional material using a fluorescence lifetime imaging method, can quickly and intuitively observe a change of a lifetime to determine whether the material is defective or not, and is a non-destructive detection method capable of implementing characterization at room temperature without introducing a new defect.
(FR)
L'invention concerne un procédé de caractérisation de défauts dans un matériau bidimensionnel et son application, se rapportant au domaine technique de la caractérisation de défauts dans des nanomatériaux. Le procédé de caractérisation de défauts consiste à : effectuer respectivement et indépendamment une imagerie de temps de fluorescence sur un échantillon de substrat de matériau bidimensionnel non défectueux et sur un échantillon de substrat de matériau bidimensionnel à analyser, et déterminer, en fonction d'un changement d'un temps de fluorescence, s'il existe un défaut, si le temps de fluorescence de l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel à analyser est supérieur au temps de fluorescence de l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel non défectueux, l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel à analyser est un échantillon défectueux, et si le temps de fluorescence de l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel à analyser ne présente pas de changement évident par rapport au temps de fluorescence de l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel non défectueux, l'échantillon de substrat de matériau bidimensionnel à analyser est un échantillon non défectueux. Le procédé caractérise un défaut dans un matériau bidimensionnel à l'aide d'un procédé d'imagerie de temps de fluorescence, peut détecter rapidement et intuitivement un changement de temps pour déterminer si le matériau est défectueux ou non, et est un procédé de détection non destructif permettant de mettre en œuvre une caractérisation à température ambiante sans introduire un nouveau défaut.
(ZH)
一种表征二维材料缺陷的方法及其应用,涉及纳米材料缺陷表征技术领域。表征缺陷的方法包括:分别独立地对无缺陷的二维材料衬底样品和待测二维材料衬底样品进行荧光寿命成像,根据荧光寿命的变化判断有无缺陷:如果待测二维材料衬底样品的荧光寿命高于无缺陷的二维材料衬底样品的荧光寿命,则待测二维材料衬底样品为有缺陷样品;如果待测二维材料衬底样品的荧光寿命与无缺陷的二维材料衬底样品的荧光寿命相比无明显变化,则待测二维材料衬底样品为无缺陷样品。该方法采用荧光寿命成像方法表征二维材料缺陷,能够快速、直观地观察荧光寿命变化,从而判断材料有无缺陷,在室温下即可表征,不会引入新的缺陷,是一种无损检测方法。
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international