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1. WO2020155424 - COMPOSITION DE SOLUTION DE GRAVURE

Numéro de publication WO/2020/155424
Date de publication 06.08.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/083773
Date du dépôt international 23.04.2019
CIB
C23F 1/44 2006.1
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
FENLÈVEMENT NON MÉCANIQUE DE MATÉRIAU MÉTALLIQUE DES SURFACES; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; MOYENS POUR EMPÊCHER L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL; PROCÉDÉS À ÉTAPES MULTIPLES POUR LE TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES UTILISANT AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT PAR LA CLASSE C23 ET AU MOINS UN PROCÉDÉ COUVERT SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C21D, SOIT PAR LA SOUS-CLASSE C22F, SOIT PAR LA CLASSE C25308
1Décapage de matériaux métalliques par des moyens chimiques
44Compositions pour enlever des matériaux métalliques d'un substrat métallique de composition différente
CPC
C23F 1/44
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE
1Etching metallic material by chemical means
44Compositions for etching metallic material from a metallic material substrate of different composition
Déposants
  • 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 郝起林 HAO, Qilin
Mandataires
  • 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT & TRADEMARK AGENCY
Données relatives à la priorité
201910098520.331.01.2019CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) ETCHING SOLUTION COMPOSITION
(FR) COMPOSITION DE SOLUTION DE GRAVURE
(ZH) 蚀刻液组合物
Abrégé
(EN)
An etching solution composition, which takes hydrofluoric acid as a main oxidizing agent and comprises a pro-oxidant which is used for forming a compact oxidizing film on the surface of a titanium membrane in an etching process, and an alkali metal salt which inhibits ion aggregation and adsorption of the titanium membrane in the etching process, and a solvent.
(FR)
L'invention concerne une composition de solution de gravure, qui comprend de l'acide fluorhydrique en tant qu'agent oxydant principal et un pro-oxydant qui est utilisé pour former un film oxydant compact sur la surface d'une membrane de titane dans un processus de gravure, et un sel de métal alcalin qui inhibe l'agrégation d'ions et l'adsorption de la membrane de titane dans le processus de gravure, et un solvant.
(ZH)
一种蚀刻液组合物,以氢氟酸为主氧化剂,并包括在蚀刻过程中在钛膜表面形成致密氧化膜的助氧化剂,在蚀刻过程中抑制钛膜离子聚集吸附的碱金属盐,以及溶剂。
Également publié en tant que
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