(EN) The present disclosure provides a method for fabricating an anti-reflective layer on a quartz surface using a metal-induced self-masking etching technique, comprising: performing reactive ion etching on a metal material and a quartz substrate using a mixed gas containing a fluorine-based gas, metal atoms and/or ions of the metal material being sputtered onto the surface of the quartz substrate to form a non-volatile metal fluoride on the surface of the quartz substrate; forming a micromask by an etching product generated by reactive ion etching gathering around the non-volatile metal fluoride; and simultaneously etching the micromask and the quartz substrate to form a sub-wavelength structure anti-reflection layer.
(FR) La présente invention concerne un procédé de fabrication d'une couche antireflet sur une surface de quartz à l'aide d'une technique de gravure auto-masquant induite par un métal, consistant : à réaliser une gravure ionique réactive sur un matériau métallique et un substrat de quartz à l'aide d'un gaz mixte contenant un gaz à base de fluor, des atomes de métal et/ou des ions du matériau métallique étant pulvérisés sur la surface du substrat de quartz de manière à former un fluorure de métal non volatil sur la surface du substrat de quartz ; à former un micromasque au moyen d'un produit de gravure produit par le biais de la gravure ionique réactive se rassemblant autour du fluorure de métal non volatil ; et à graver simultanément le micromasque et le substrat de quartz de manière à former une couche antireflet de structure de sous-longueur d'onde.
(ZH) 本公开提供了一种使用金属诱导自掩模刻蚀工艺制作石英表面抗反层的方法,包括:利用包含氟基气体的混合气体反应离子刻蚀金属材料和石英基片,所述金属材料的金属原子和/或离子溅射到所述石英基片表面,在所述石英基片表面形成非挥发金属氟化物;反应离子刻蚀产生的刻蚀产物聚集在所述非挥发金属氟化物的周围,形成微掩模;同时刻蚀所述微掩模和所述石英基片,形成亚波长结构抗反层。