Traitement en cours

Veuillez attendre...

Paramétrages

Paramétrages

Aller à Demande

1. WO2020116086 - DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE POUR EXPOSITION

Numéro de publication WO/2020/116086
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/043823
Date du dépôt international 08.11.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
G02B 6/42 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
6Guides de lumière; Détails de structure de dispositions comprenant des guides de lumière et d'autres éléments optiques, p.ex. des moyens de couplage
24Couplage de guides de lumière
42Couplage de guides de lumière avec des éléments opto-électroniques
H01S 5/40 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
SDISPOSITIFS UTILISANT LE PROCÉDÉ D'AMPLIFICATION DE LA LUMIÈRE PAR ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT POUR AMPLIFIER OU GÉNÉRER DE LA LUMIÈRE; DISPOSITIFS UTILISANT L’ÉMISSION STIMULÉE DE RAYONNEMENT ÉLECTROMAGNÉTIQUE DANS DES GAMMES D’ONDES AUTRES QU'OPTIQUES
5Lasers à semi-conducteurs
40Agencement de plusieurs lasers à semi-conducteurs, non prévu dans les groupes H01S5/02-H01S5/30130
Déposants
  • ウシオ電機株式会社 USHIO DENKI KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 林 賢志 HAYASHI,Kenji
  • 三浦 雄一 MIURA,Yuichi
Mandataires
  • 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所 UNIUS PATENT ATTORNEYS OFFICE
Données relatives à la priorité
2018-22849305.12.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LIGHT SOURCE DEVICE FOR EXPOSURE
(FR) DISPOSITIF DE SOURCE DE LUMIÈRE POUR EXPOSITION
(JA) 露光用光源装置
Abrégé
(EN)
Provided is a light source device for exposure that uses a plurality of semiconductor laser light sources and provides light having improved consistency of angle distribution. The light source device for exposure comprises: a plurality of semiconductor laser light sources; a plurality of collimator optical systems that are arranged corresponding to the plurality of semiconductor laser light sources, convert, into substantially parallel light bundles, light bundles emitted from the semiconductor laser light sources, and emit same; a condensing optical system that includes an incidence surface and condenses the light bundles emitted from the collimator optical system, said incidence surface having incident thereto the light bundles emitted from the collimator optical system; and an optical waveguide that includes a round incidence surface and is arranged at a position at which the light bundles emitted from the condensing optical system are condensed. When each of the light bundles on the incidence surface of the condensing optical system, emitted from the semiconductor laser light sources, are rotated about a virtual optical axis of the condensing optical system and lined up in the same radial direction, part of adjacent light bundles overlap and the ratio between the maximum and minimum number of light bundles that belong to a group of light bundles having the same distance from the optical axis of the condensing optical system is less than 2.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de source de lumière pour exposition qui utilise une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur et qui fournit une lumière ayant une cohérence de distribution d'angle améliorée. Le dispositif de source de lumière pour exposition comprend : une pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur ; une pluralité de systèmes optiques à collimateur qui sont disposés de façon à correspondre à la pluralité de sources de lumière laser à semi-conducteur, qui convertissent des faisceaux de lumière émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur en faisceaux de lumière sensiblement parallèles, et qui émettent ces derniers ; un système optique de condensation qui comprend une surface d'incidence et qui condense les faisceaux de lumière émis par le système optique à collimateur, les faisceaux de lumière émis par le système optique à collimateur étant incidents sur ladite surface d'incidence ; et un guide d'ondes optique qui comprend une surface d'incidence ronde et qui est disposé dans une position dans laquelle les faisceaux lumineux émis par le système optique de condensation sont condensés. Lorsque chacun des faisceaux lumineux émis par les sources de lumière laser à semi-conducteur sur la surface d'incidence du système optique de condensation sont tournés autour d'un axe optique virtuel du système optique de condensation et alignés dans la même direction radiale, une partie des faisceaux lumineux adjacents se chevauchent et le rapport entre le nombre maximum et le nombre minimum de faisceaux lumineux qui appartiennent à un groupe de faisceaux lumineux ayant la même distance par rapport à l'axe optique du système optique de condensation est inférieur à 2.
(JA)
複数の半導体レーザ光源を用いて、角度分布の均一性を向上させた光を供給する露光用光源装置を提供する。 複数の半導体レーザ光源と、複数の半導体レーザ光源に対応して配置され、半導体レーザ光源から出射された光線束を略平行の光線束に変換して出射する、複数のコリメート光学系と、コリメート光学系から出射された光線束が入射される入射面を含み、コリメート光学系から出射された光線束を集光する集光光学系と、集光光学系から出射された光線束が集光する位置に配置された、円形状の入射面を含む光導波路とを備え、集光光学系の入射面における、半導体レーザ光源から出射されたそれぞれの光線束は、仮想的に集光光学系の光軸を中心に回転させて、同一の径方向に向かって並べたときに、隣接する光線束の一部が重なり、集光光学系の光軸からの距離が同一である光線束群に属する数の最大値と最小値の比率が2未満である。
Également publié en tant que
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international