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1. WO2020115337 - PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR OBTENIR UN RELIEF SUR UN SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2020/115337
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/ES2018/070773
Date du dépôt international 03.12.2018
CIB
B41C 1/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
CPROCÉDÉS DE FABRICATION OU DE REPRODUCTION DES SURFACES D'IMPRESSION
1Préparation de la forme ou du cliché
B41C 3/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
CPROCÉDÉS DE FABRICATION OU DE REPRODUCTION DES SURFACES D'IMPRESSION
3Reproduction ou duplication des formes d'impression
B41J 3/28 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
JMACHINES À ÉCRIRE; MÉCANISMES D'IMPRESSION SÉLECTIVE, c. à d. MÉCANISMES IMPRIMANT AUTREMENT QUE PAR UTILISATION DE FORMES D'IMPRESSION; CORRECTION D'ERREURS TYPOGRAPHIQUES
3Machines à écrire ou mécanismes d'impression ou de marquage sélectif caractérises par le but dans lequel ils sont construits
28pour l'impression de haut en bas des surfaces planes, p.ex. de livres, dessins, boîtes
Déposants
  • BARBERÁN LATORRE, Jesús Francisco [ES]/[ES]
Inventeurs
  • BARBERÁN LATORRE, Jesús Francisco
Mandataires
  • VEIGA SERRANO, Mikel
Données relatives à la priorité
Langue de publication espagnol (ES)
Langue de dépôt espagnol (ES)
États désignés
Titre
(EN) METHOD AND DEVICE FOR OBTAINING A RAISED PATTERN ON A SUBSTRATE
(ES) PROCEDIMIENTO Y DISPOSITIVO PARA OBTENER UN RELIEVE SOBRE UN SUSTRATO
(FR) PROCÉDÉ ET DISPOSITIF POUR OBTENIR UN RELIEF SUR UN SUBSTRAT
Abrégé
(EN)
The invention relates to a method for obtaining a raised pattern on a substrate (1) and to the device used, wherein the method comprises the following steps of moving a substrate (1) having one face (1'); supplying a film (8) with a first face (8.1); projecting onto the first face (8.1) a raised-pattern product (9') using digital printing technology so as to generate a positive raised pattern on the first face (8.1); fixing the positive raised pattern on the film (8); applying an overlay product (4); obtaining a negative raised pattern on the overlay product (4) by contact with the positive raised pattern; and fixing the negative raised pattern on the face (1') of the substrate (1).
(ES)
Procedimiento para obtener un relieve sobre un sustrato (1) y dispositivo empleado, donde el procedimiento comprende los pasos siguientes de desplazaun sustrato (1) que tiene una cara (1');suministrar un film (8) con una primera cara (8.1);proyectar en la primera cara (8.1) un producto de relieve (9') mediante tecnología de impresión digital de manera que se genera un relieve positivo en la primera cara (8.1);fijar el relieve positivo en el film (8); aplicar un producto de recubrimiento (4);obtener un relieve negativo en el producto de recubrimiento (4) por contacto con el relieve positivo; yfijar el relieve negativo sobre la cara (1') del sustrato (1).
(FR)
L'invention concerne un procédé pour obtenir un relief sur un substrat (1) et un dispositif utilisé le procédé comprenant les étapes suivantes consistant à : déplacer un substrat (1) qui présente une face (1') ; fournir un film (8) avec une première face (8.1) ; projeter sur ladite face (8.1) un produit de formation de relief (9') au moyen d'une technologie d'impression numérique de sorte qu'un relief positif est généré sur la première face (8.1) ; fixer le relief positif sur le film (8) ; appliquer un produit de recouvrement (4) ; obtenir un relief négatif dans le produit de recouvrement (4) par contact avec le relief positif ; et fixer le relief positif sur la face (1') du substrat (1).
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