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1. WO2020114684 - PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS

Numéro de publication WO/2020/114684
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/079640
Date du dépôt international 30.10.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70525
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70491Information management and control, including software
70525Controlling normal operating mode, e.g. matching different apparatus, remote control, prediction of failure
G03F 7/70616
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70616Wafer pattern monitoring, i.e. measuring printed patterns or the aerial image at the wafer plane
G03F 7/70625
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
70616Wafer pattern monitoring, i.e. measuring printed patterns or the aerial image at the wafer plane
70625Pattern dimensions, e.g. line width, profile, sidewall angle, edge roughness
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • SLACHTER, Abraham
  • TEL, Wim, Tjibbo
  • SLOTBOOM, Daan, Maurits
  • TIMOSHKOV, Vadim, Yourievich
  • VAN DER STRATEN, Koen, Wilhelmus, Cornelis, Adrianus
  • MENCHTCHIKOV, Boris
  • HASTINGS, Simon, Philip, Spencer
  • TABERY, Cyrus, Emil
  • GENIN, Maxime, Philippe, Frederic
  • ZHANG, Youping
  • ZOU, Yi
  • LIN, Chenxi
  • CHENG, Yana
Mandataires
  • PETERS, John Antoine
Données relatives à la priorité
62/774,48003.12.2018US
62/814,54406.03.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHOD OF MANUFACTURING DEVICES
(FR) PROCÉDÉ DE PRODUCTION DE DISPOSITIFS
Abrégé
(EN)
A method for analyzing a process, the method including: obtaining a multi-dimensional probability density function representing an expected distribution of values for a plurality of process parameters; obtaining a performance function relating values of the process parameters to a performance metric of the process; and using the performance function to map the probability density function to a performance probability function having the process parameters as arguments.
(FR)
L'invention concerne également un procédé d'analyse d'un processus, le procédé comprenant les étapes consistant à : obtenir une fonction de densité de probabilité multidimensionnelle représentant une distribution attendue de valeurs pour une pluralité de paramètres de traitement ; obtenir une fonction de performance mettant en relation des valeurs de paramètres de processus et une métrique de performance du processus ; et utiliser la fonction de performance pour mapper la fonction de densité de probabilité à une fonction de probabilité de performance ayant les paramètres de processus en tant qu'arguments.
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