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1. WO2020113680 - DISPOSITIF DE FILTRAGE ET SYSTÈME D'ÉTALEMENT DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE

Numéro de publication WO/2020/113680
Date de publication 11.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/121893
Date du dépôt international 19.12.2018
CIB
B01D 36/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
01PROCÉDÉS OU APPAREILS PHYSIQUES OU CHIMIQUES EN GÉNÉRAL
DSÉPARATION
36Circuits ou combinaisons de filtres avec d'autres dispositifs de séparation
B05C 11/10 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
CAPPAREILLAGES POUR L'APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
11Parties constitutives, détails ou accessoires non prévus dans les groupes B05C1/-B05C9/126
10Stockage, débit ou réglage du liquide ou d'un autre matériau fluide; Récupération de l'excès de liquide ou d'un autre matériau fluide
G03F 7/16 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
16Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
CPC
B01D 36/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
DSEPARATION
36Filter circuits or combinations of filters with other separating devices
B05C 11/10
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
CAPPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
11Component parts, details or accessories not specifically provided for in groups B05C1/00 - B05C9/00
10Storage, supply or control of liquid or other fluent material; Recovery of excess liquid or other fluent material
G03F 7/16
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
16Coating processes; Apparatus therefor
Déposants
  • 惠科股份有限公司 HKC CORPORATION LIMITED [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 何怀亮 HE, Huailiang
Mandataires
  • 深圳市世纪恒程知识产权代理事务所 CENFO INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY
Données relatives à la priorité
201811478710.X04.12.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) FILTER DEVICE AND PHOTORESIST SPREADING SYSTEM
(FR) DISPOSITIF DE FILTRAGE ET SYSTÈME D'ÉTALEMENT DE RÉSINE PHOTOSENSIBLE
(ZH) 过滤装置和光阻涂布系统
Abrégé
(EN)
A filter device and a photoresist spreading system. The filter device comprises: a liquid storage barrel (10) configured to hold a photoresist to be filtered; a stirring structure (20) comprising a stirring barrel (21) and a stirring assembly (22) at least partially accommodated in the stirring barrel; a first pipeline (31), wherein one end of the first pipeline (31) communicates with the liquid storage barrel (10), and the other end of the first pipeline (31) communicates with the stirring barrel (21); a first filter assembly (40) provided on the first pipeline (31) and located between the liquid storage barrel (10) and the stirring barrel (21); a first pressure measurement assembly (50) provided on the first pipeline (31) and configured to measure the pressure of the photoresist in the first pipeline (31); and a second pipeline (32), wherein one end of the second pipeline (32) communicates with the stirring barrel (21), and the other end of the second pipeline (32) is connected to a spreading device (300).
(FR)
L'invention concerne également un dispositif de filtrage et un système d'étalement de résine photosensible. Le dispositif de filtrage comprend : un cylindre de stockage de liquide (10) configuré pour contenir une résine photosensible à filtrer; une structure d'agitation (20) comprenant un cylindre d'agitation (21) et un ensemble d'agitation (22) logé au moins partiellement dans le cylindre d'agitation; un premier pipeline (31), une extrémité du premier pipeline (31) communiquant avec le cylindre de stockage de liquide (10), et l'autre extrémité du premier pipeline (31) communiquant avec le cylindre d'agitation (21); un premier ensemble filtrant (40) disposée sur le premier pipeline (31) et située entre le cylindre de stockage de liquide (10) et le cylindre d'agitation (21); un premier ensemble de mesure de pression (50) disposé sur le premier pipeline (31) et configuré pour mesurer la pression de la résine photosensible dansle premier pipeline (31); et un second pipeline (32), une extrémité du second pipeline (32) communiquant avec le cylindre d'agitation (21), et l'autre extrémité du second pipeline (32) étant reliée à un dispositif d'étalement (300).
(ZH)
一种过滤装置和光阻涂布系统,该过滤装置包括:储液桶(10),设置为盛放待过滤光阻剂;搅拌结构(20),包括搅拌桶(21)、及至少部分容纳搅拌桶内的搅拌组件(22);第一管路(31),第一管路(31)的一端连通储液桶(10),第一管路(31)的另一端连通搅拌桶(21);第一过滤组件(40),设于第一管路(31),并位于储液桶(10)和搅拌桶(21)之间;第一压力检测组件(50),设于第一管路(31),设置为检测第一管路(31)内光阻剂的压力;及第二管路(32),第二管路(32)的一端连通搅拌桶(21),第二管路(32)的另一端连接于涂布装置(300)。
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