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1. WO2020112340 - PROCÉDÉS DE FORMATION DE COUCHES ISOLANTES À MOTIFS SUR DES COUCHES CONDUCTRICES ET DISPOSITIFS FABRIQUÉS À L'AIDE DE TELS PROCÉDÉS

Numéro de publication WO/2020/112340
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/060815
Date du dépôt international 12.11.2019
CIB
G02B 26/00 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
26Dispositifs ou systèmes optiques utilisant des éléments optiques mobiles ou déformables pour commander l'intensité, la couleur, la phase, la polarisation ou la direction de la lumière, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
H01L 27/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
27Dispositifs consistant en une pluralité de composants semi-conducteurs ou d'autres composants à l'état solide formés dans ou sur un substrat commun
CPC
G02B 26/00
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
26Optical devices or arrangements using movable or deformable optical elements for controlling the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light, e.g. switching, gating, modulating
Déposants
  • CORNING INCORPORATED [US]/[US]
Inventeurs
  • WYNNE, Thomas M.
Mandataires
  • HOOD, Michael A.
Données relatives à la priorité
62/771,33726.11.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) METHODS FOR FORMING PATTERNED INSULATING LAYERS ON CONDUCTIVE LAYERS AND DEVICES MANUFACTURED USING SUCH METHODS
(FR) PROCÉDÉS DE FORMATION DE COUCHES ISOLANTES À MOTIFS SUR DES COUCHES CONDUCTRICES ET DISPOSITIFS FABRIQUÉS À L'AIDE DE TELS PROCÉDÉS
Abrégé
(EN)
A method for forming a patterned insulating layer on a conductive layer can include removing an annular region of an insulating layer overlying a perimeter of an opening in a mask by laser ablation. The mask can be removed from the conductive layer to remove an excess portion of the insulating layer disposed on the mask, whereby a remaining portion of the insulating layer defines the patterned insulating layer disposed on the central region of the conductive layer, and a surrounding region of the conductive layer surrounding the central region of the conductive layer is uncovered by the patterned insulating layer.
(FR)
Le procédé de formation d'une couche isolante à motifs sur une couche conductrice peut comprendre l'élimination d'une région annulaire d'une couche isolante recouvrant un périmètre d'une ouverture dans un masque par ablation laser. Le masque peut être retiré de la couche conductrice pour retirer une partie excédentaire de la couche isolante disposée sur le masque, une partie restante de la couche isolante délimitant la couche isolante à motifs disposée sur la région centrale de la couche conductrice, et une région environnante de la couche conductrice entourant la région centrale de la couche conductrice n'es pas couverte par la couche isolante à motifs.
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