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1. WO2020109152 - APPAREIL DE NETTOYAGE DE MEMBRANE

Numéro de publication WO/2020/109152
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/082184
Date du dépôt international 22.11.2019
CIB
G03F 1/62 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
62Pellicules, p.ex. assemblage de pellicules ayant une membrane sur un cadre de support; Leur préparation
G03F 1/82 2012.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
1Originaux pour la production par voie photomécanique de surfaces texturées, p.ex. masques, photomasques ou réticules; Masques vierges ou pellicules à cet effet; Réceptacles spécialement adaptés à ces originaux; Leur préparation
68Procédés de préparation non couverts par les groupes G03F1/20-G03F1/50105
82Procédés auxiliaires, p.ex. nettoyage ou inspection
CPC
G03F 1/62
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
G03F 1/82
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
1Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
82Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • NIKIPELOV, Andrey
  • KURILOVICH, Dmitry
  • SBRIZZAI, Fabio
  • VAN DE KERKHOF, Marcus, Adrianus
  • VAN DER WOORD, Ties, Wouter
  • VAN DER ZANDE, Willem, Joan
  • VAN DUIVENBODE, Jeroen
  • VLES, David, Ferdinand
Mandataires
  • FILIP, Diana
Données relatives à la priorité
18208555.527.11.2018EP
19173742.810.05.2019EP
19180219.814.06.2019EP
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) MEMBRANE CLEANING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE NETTOYAGE DE MEMBRANE
Abrégé
(EN)
A membrane cleaning apparatus for removing particles from a membrane comprises: a membrane support; and an electric field generating mechanism. The membrane support is for supporting the membrane. The electric field generating mechanism is for generating an electric field in the vicinity of the membrane when supported by the membrane support. The electric field generating mechanism may comprise: one or more collector electrodes; and a mechanism for applying a voltage across a membrane supported by the membrane support and the or each of the one or more collector electrodes.
(FR)
La présente invention concerne un appareil de nettoyage de membrane servant à éliminer des particules d'une membrane et comprenant : un support de membrane ; et un mécanisme générateur de champ électrique. Le support de membrane sert à supporter la membrane. Le mécanisme générateur de champ électrique sert à générer un champ électrique à proximité de la membrane lorsqu'il est supporté par le support de membrane. Le mécanisme générateur de champ électrique peut comprendre : une ou plusieurs électrodes de collecteur ; et un mécanisme servant à appliquer une tension à travers une membrane supportée par le support de membrane et à travers la ou les électrodes de collecteur.
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