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1. WO2020107508 - DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MESURE EPISSÉE

Numéro de publication WO/2020/107508
Date de publication 04.06.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/119375
Date du dépôt international 05.12.2018
CIB
G01B 11/24 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
BMESURE DE LA LONGUEUR, DE L'ÉPAISSEUR OU DE DIMENSIONS LINÉAIRES ANALOGUES; MESURE DES ANGLES; MESURE DES SUPERFICIES; MESURE DES IRRÉGULARITÉS DES SURFACES OU CONTOURS
11Dispositions pour la mesure caractérisées par l'utilisation de moyens optiques
24pour mesurer des contours ou des courbes
CPC
G01B 11/2441
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
11Measuring arrangements characterised by the use of optical means
24for measuring contours or curvatures
2441using interferometry
Déposants
  • 中国科学院光电技术研究所 THE INSTITUTE OF OPTICS AND ELECTRONICS, THE CHINESE ACADEMY OF SCIENCES [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 徐富超 XU, Fuchao
  • 贾辛 JIA, Xin
  • 甘大春 GAN, Dachun
  • 邢廷文 XING, Tingwen
Mandataires
  • 中科专利商标代理有限责任公司 CHINA SCIENCE PATENT & TRADEMARK AGENT LTD.
Données relatives à la priorité
201811434724.128.11.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) SPLICED MEASUREMENT DEVICE AND METHOD
(FR) DISPOSITIF ET PROCÉDÉ DE MESURE EPISSÉE
(ZH) 拼接测量装置和方法
Abrégé
(EN)
A spliced measurement device, which is suitable for spliced measurement of a concave spherical surface, the spliced measurement device comprising: an interferometer (101), a reference lens (102), a first plane reflector (103), a second plane reflector (104), a first adjustment mechanism (105), a second adjustment mechanism (106), a measured piece (107) having a concave spherical surface, a motion platform (108) and a control mechanism (109). The first plane reflector (103) is installed on the first adjustment mechanism (105), and the first adjustment mechanism (105) is configured to change the position of the first plane reflector (103). The second plane reflector (104) is installed on the second adjustment mechanism (106), and the second adjustment mechanism (106) is configured to change the position of the second plane reflector (104). The measured piece (107) is placed on the motion platform (108), and the motion platform (108) is configured to change the position of the measured piece (107). The control mechanism (109) is in communication with the interferometer (101), the first adjustment mechanism (105), the second adjustment mechanism (106) and the motion platform (108) so as to send out control signals. The included angle between the first plane reflector (103) and the second plane reflector (104) may be adjusted by means of the first adjustment mechanism (105) and the second adjustment mechanism (106) so that the light incident on the measured piece (107) inclines at a first angle relative to the light emitted from the reference lens (102), thereby avoiding the inclination of the measured piece (107).
(FR)
La présente invention concerne un dispositif de mesure épissée, approprié pour une mesure épissée d'une surface sphérique concave, le dispositif de mesure épissée comprenant : un interféromètre (101), une lentille de référence (102), un premier réflecteur plan (103), un second réflecteur plan (104), un premier mécanisme de réglage (105), un second mécanisme de réglage (106), une pièce mesurée (107) ayant une surface sphérique concave, une plateforme de mouvement (108) et un mécanisme de commande (109). Le premier réflecteur plan (103) est installé sur le premier mécanisme de réglage (105) et le premier mécanisme de réglage (105) est configuré pour modifier la position du premier réflecteur plan (103). Le second réflecteur plan (104) est installé sur le second mécanisme de réglage (106) et le second mécanisme de réglage (106) est configuré pour modifier la position du second réflecteur plan (104). La pièce mesurée (107) est placée sur la plateforme de mouvement (108) et la plate-forme de mouvement (108) est configurée pour modifier la position de la pièce mesurée (107). Le mécanisme de commande (109) est en communication avec l'interféromètre (101), le premier mécanisme de réglage (105), le second mécanisme de réglage (106) et la plateforme de mouvement (108) de façon à envoyer des signaux de commande. L'angle inclus entre le premier réflecteur plan (103) et le second réflecteur plan (104) peut être réglé au moyen du premier mécanisme de réglage (105) et du second mécanisme de réglage (106) de sorte que la lumière incidente sur la pièce mesurée (107) s'incline à un premier angle par rapport à la lumière émise par la lentille de référence (102), ce qui permet d'éviter l'inclinaison de la pièce mesurée (107).
(ZH)
一种拼接测量装置,适于对凹球面的面形进行拼接测量,该拼接测量装置包括:干涉仪(101)、参考透镜(102)、第一平面反射镜(103)、第二平面反射镜(104)、第一调整机构(105)、第二调整机构(106)、凹球面的被测件(107)、运动台(108)和控制机构(109),第一平面反射镜(103)安装在第一调整机构(105)上,第一调整机构(105)配置成改变第一平面反射镜(103)的位置;第二平面反射镜(104)安装在第二调整机构(106)上,第二调整机构(106)配置成改变第二平面反射镜(104)的位置;被测件(107)放置在运动台(108)上,运动台(108)配置成改变被测件(107)的位置;控制机构(109)与干涉仪(101)、第一调整机构(105)、第二调整机构(106)和运动台(108)相连通以发出控制信号,借助于第一调整机构(105)和第二调整机构(106),第一平面反射镜(103)和第二平面反射镜(104)之间的夹角能被调节以使得入射到被测件(107)上的光线相对于从参考透镜(102)射出的光线倾斜第一角度,从而避免倾斜被测件(107)。
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