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1. WO2020095675 - DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'OUVERTURE/FERMETURE DE COUVERCLE DE RÉCIPIENT DE RÉCEPTION DE SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2020/095675
Date de publication 14.05.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2019/041455
Date du dépôt international 23.10.2019
CIB
H01L 21/677 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
677pour le transport, p.ex. entre différents postes de travail
H01L 21/02 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
Déposants
  • 東京エレクトロン株式会社 TOKYO ELECTRON LIMITED [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 遠藤 栄幾 ENDO, Eiki
  • 高塚 宏行 TAKATSUKA, Hiroyuki
  • 向山 達也 MUKOYAMA, Tatsuya
Mandataires
  • 金本 哲男 KANEMOTO, Tetsuo
  • 萩原 康司 HAGIWARA, Yasushi
  • 扇田 尚紀 OGITA, Naoki
  • 三根 卓也 MINE, Takuya
Données relatives à la priorité
2018-20825705.11.2018JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND METHOD OF OPENING/CLOSING LID OF SUBSTRATE ACCOMMODATING VESSEL
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT ET PROCÉDÉ D'OUVERTURE/FERMETURE DE COUVERCLE DE RÉCIPIENT DE RÉCEPTION DE SUBSTRAT
(JA) 基板処理装置、基板収容容器の蓋を開閉する方法
Abrégé
(EN)
Provided is a substrate processing device comprising a substrate processing unit and a control unit. The substrate processing unit has a load port configured to install a substrate accommodating vessel in which at least one substrate is accommodated. The substrate processing unit is configured to take out the substrate from the substrate accommodating vessel installed on the load port, and to subject the substrate to a series of processes. The control unit is configured to control the opening and closing of a lid of the substrate accommodating vessel installed on the load port. The control unit implements control to open the lid after the substrate accommodating vessel is installed on the load port. The control unit implements control to close the lid if an abnormal state has occurred in the substrate processing unit, a predetermined time has elapsed, and none of the substrates taken out of the substrate accommodating vessel can be put back into the substrate accommodating vessel.
(FR)
L'invention concerne un dispositif de traitement de substrat comportant une unité de traitement de substrat et une unité de commande. L'unité de traitement de substrat a un port de charge configuré pour installer un récipient de réception de substrat dans lequel au moins un substrat est reçu. L'unité de traitement de substrat est configurée pour retirer le substrat du récipient de réception de substrat installé sur le port de charge, et pour soumettre le substrat à une série de processus. L'unité de commande est configurée pour commander l'ouverture et la fermeture d'un couvercle du récipient de réception de substrat installé sur le port de charge. L'unité de commande met en œuvre une commande pour ouvrir le couvercle après que le récipient de réception de substrat est installé sur le port de charge. L'unité de commande met en œuvre une commande pour fermer le couvercle si un état anormal s'est produit dans l'unité de traitement de substrat, un temps prédéterminé s'est écoulé, et aucun des substrats retirés du récipient de réception de substrat ne peut être remis dans le récipient de réception de substrat.
(JA)
基板処理装置は、基板処理部と制御部とを有する。基板処理部は、少なくとも1つの基板が収容された基板収容容器を配置するように構成されたロードポートを有する。基板処理部は、ロードポートに配置された基板収容容器から基板を取り出し、その基板に対して一連の処理を施すように構成される。制御部は、ロードポートに配置された基板収容容器の蓋の開閉を制御するように構成される。制御部は、基板収容容器がロードポートに配置された後に蓋を開放するよう制御する。制御部は、基板処理部において異常状態が発生し、予め決められた時間が経過し、基板収容容器から取り出された基板のうち前記基板収容容器に回収可能な基板が無い場合に、蓋を閉止するよう制御する。
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