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1. WO2020091239 - APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT

Numéro de publication WO/2020/091239
Date de publication 07.05.2020
N° de la demande internationale PCT/KR2019/012789
Date du dépôt international 01.10.2019
CIB
H01L 21/67 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/683 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
H01L 21/687 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
687en utilisant des moyens mécaniques, p.ex. mandrins, pièces de serrage, pinces
F16L 11/11 2006.01
FMÉCANIQUE; ÉCLAIRAGE; CHAUFFAGE; ARMEMENT; SAUTAGE
16ÉLÉMENTS OU ENSEMBLES DE TECHNOLOGIE; MESURES GÉNÉRALES POUR ASSURER LE BON FONCTIONNEMENT DES MACHINES OU INSTALLATIONS; ISOLATION THERMIQUE EN GÉNÉRAL
LTUYAUX; RACCORDS OU AUTRES ACCESSOIRES POUR TUYAUX; SUPPORTS POUR TUYAUX, CÂBLES OU CONDUITS DE PROTECTION; MOYENS D'ISOLATION THERMIQUE EN GÉNÉRAL
11Manches, c. à d. tuyaux flexibles
04en caoutchouc ou en matériaux plastiques flexibles
11à paroi ondulée
Déposants
  • 주식회사 테스 TES CO.,LTD [KR]/[KR]
Inventeurs
  • 한진수 HAN, Jin-Soo
  • 김수천 KIM, Soo-Cheon
Mandataires
  • 이재홍 LEE, Jae-Hong
Données relatives à la priorité
10-2018-013038530.10.2018KR
10-2018-014650123.11.2018KR
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) APPAREIL DE TRAITEMENT DE SUBSTRAT
(KO) 기판처리장치
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a substrate processing apparatus and, more particularly, to a substrate processing apparatus which is capable of reducing adhesion of particles to a thin film due to a scattering, when a susceptor moves up and down, of powder etc., accumulated inside a bellows connected to a lower surface of a chamber.
(FR)
La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat, et plus particulièrement un appareil de traitement de substrat qui est susceptible de réduire l'adhérence de particules à un film mince en raison de la dispersion, lorsqu'un suscepteur se déplace vers le haut et vers le bas, d'une poudre, etc., accumulée à l'intérieur d'un soufflet relié à une surface inférieure d'une chambre.
(KO)
본 발명은 기판처리장치에 대한 것으로서, 보다 상세하게는 챔버의 하면에 연결된 벨로우즈 내측에 파우더 등이 누적되어 서셉터의 상하 이동 시에 파우더가 비산하여 박막에 파티클이 부착되는 것을 줄일 수 있는 기판처리장치에 대한 것이다.
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