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1. WO2020087984 - DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION L'UTILISANT

Numéro de publication WO/2020/087984
Date de publication 07.05.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2019/096020
Date du dépôt international 15.07.2019
CIB
B08B 1/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
1Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation d'outils, de brosses ou d'éléments analogues
B08B 3/02 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
02Nettoyage par la force de jets ou de pulvérisations
B08B 13/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
13Accessoires ou parties constitutives, d'utilisation générale, des machines ou appareils de nettoyage
G03F 7/30 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
26Traitement des matériaux photosensibles; Appareillages à cet effet
30Dépouillement selon l'image utilisant des moyens liquides
CPC
B08B 1/005
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
1Cleaning by methods involving the use of tools, brushes, or analogous members
001characterised by the type of cleaning tool
005Scrapers
B08B 13/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
13Accessories or details of general applicability for machines or apparatus for cleaning
B08B 3/02
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
3Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
02Cleaning by the force of jets or sprays
G03F 7/30
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
30Imagewise removal using liquid means
G03F 7/3092
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
30Imagewise removal using liquid means
3092Recovery of material; Waste processing
Déposants
  • 武汉华星光电技术有限公司 WUHAN CHINA STAR OPTOELECTRONICS TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 魏凡 WEI, Fan
Mandataires
  • 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) ESSEN PATENT & TRADEMARK AGENCY
Données relatives à la priorité
201811272658.230.10.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) CLEANING DEVICE AND SPRAYING DEVICE USING SAME
(FR) DISPOSITIF DE NETTOYAGE ET DISPOSITIF DE PULVÉRISATION L'UTILISANT
(ZH) 清洁装置及采用该清洁装置的喷淋装置
Abrégé
(EN)
A cleaning device (2) and a spraying device using same. The cleaning device comprises a bracket (20), a drive member (21), and a sliding sheet (22). The drive member (21) is fixed on the bracket (20). The sliding sheet (22) is able to extend into a device to be cleaned. The drive member (21) is connected to the sliding sheet (22) to drive the sliding sheet (22) to move within the device to be cleaned. By cleaning a spray nozzle (3) of the spraying device using the cleaning device (2), photoresist residues can be effectively removed, thereby avoiding the block of the spray nozzle.
(FR)
L'invention concerne également un dispositif de nettoyage (2) et un dispositif de pulvérisation l'utilisant. Le dispositif de nettoyage comprend un support (20), un élément de commande (21) et une bâche coulissante. L'élément de commande (21) est fixé sur le support (20). La bâche coulissante (22) peut s'étendre dans un dispositif à nettoyer. L'élément de commande (21) est relié à la bâche coulissante (22) pour entraîner la bâche coulissante (22) à se déplacer à l'intérieur du dispositif à nettoyer. En nettoyant une buse de pulvérisation (3) du dispositif de pulvérisation à l'aide du dispositif de nettoyage (2), des résidus de photorésine peuvent être efficacement éliminés, ce qui permet d'éviter l'obstruction de la buse de pulvérisation.
(ZH)
一种清洁装置(2)及采用该清洁装置(2)的喷淋装置,其中清洁装置包括一支架(20)、一驱动件(21)及一滑片(22),所述驱动件(21)固定在所述支架(20)上,所述滑片(22)能够延伸进入一欲清洁的装置的内部,所述驱动件(21)与所述滑片(22)连接以驱动滑片(22)在所述欲清洁的装置内移动。利用该清洁装置(2)清洁喷淋装置的喷嘴(3),能够有效去除光阻残留,避免喷嘴堵塞。
Également publié en tant que
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