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1. WO2020067642 - DISPOSITIF D'ÉLIMINATION D'ÉMANATIONS DE PRODUIT CHIMIQUE À L'AIDE D'UN RIDEAU D'AIR

Numéro de publication WO/2020/067642
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/KR2019/010145
Date du dépôt international 12.08.2019
CIB
H01L 21/67 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
H01L 21/683 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
683pour le maintien ou la préhension
CPC
H01L 21/67
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
H01L 21/683
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
683for supporting or gripping
Déposants
  • 무진전자 주식회사 MUJIN ELECTRONICS CO., LTD. [KR]/[KR]
Inventeurs
  • 윤병문 YOON, Byoung Moon
  • 이일상 LEE, Il Sang
Mandataires
  • 특허법인(유한) 다래 DARAE LAW & IP, LLC
Données relatives à la priorité
10-2018-011573328.09.2018KR
Langue de publication coréen (KO)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) DEVICE FOR REMOVING CHEMICAL FUME BY USING AIR CURTAIN
(FR) DISPOSITIF D'ÉLIMINATION D'ÉMANATIONS DE PRODUIT CHIMIQUE À L'AIDE D'UN RIDEAU D'AIR
(KO) 에어 커튼을 이용한 케미컬 퓸 제거장치
Abrégé
(EN)
The present invention relates to a device for removing chemical fume by using an air curtain. The present invention comprises: a processing vessel disposed inside a chamber, an opening being formed through the upper end of the processing vessel; a chuck disposed inside the processing vessel, a substrate being disposed on the chuck as a processing target; a chemical spraying unit for spraying a chemical to the substrate disposed on the chuck; and an air curtain unit for forming an air curtain in the opening of the processing vessel such that chemical fume generated in the course of processing the substrate by a chemical sprayed by the chemical spraying unit is prevented from diffusing to a chamber space outside the processing vessel through the opening of the processing vessel. According to the present invention, chemical fume generated during an etching or cleaning process, among semiconductor processes, is discharged outwards while being blocked by the air curtain, thereby preventing the problem of contamination of the interior of a chamber, which would otherwise occur by the chemical fume diffusing to the chamber area outside the processing vessel.
(FR)
La présente invention concerne un dispositif d'élimination d'émanations de produit chimique à l'aide d'un rideau d'air. La présente invention comprend : un récipient de traitement disposé à l'intérieur d'une chambre, une ouverture étant formée à travers l'extrémité supérieure du récipient de traitement ; un mandrin disposé à l'intérieur du récipient de traitement, un substrat étant disposé sur le mandrin en tant que cible de traitement ; une unité de pulvérisation de produit chimique pour pulvériser un produit chimique sur le substrat disposé sur le mandrin ; et une unité rideau d'air pour former un rideau d'air dans l'ouverture du récipient de traitement de telle sorte que des émanations de produit chimique générées au cours du traitement du substrat par un produit chimique pulvérisé par l'unité de pulvérisation de produit chimique ne peuvent pas se diffuser vers un espace de chambre à l'extérieur du récipient de traitement à travers l'ouverture du récipient de traitement. Selon la présente invention, des émanations de produit chimique générées pendant un processus de gravure ou de nettoyage, parmi des processus relatifs aux semi-conducteurs, sont évacuées vers l'extérieur tout en étant bloquées par le rideau d'air, ce qui permet d'éviter le problème de contamination de l'intérieur d'une chambre, qui pourrait sinon se produire par la diffusion des émanations de produit chimique vers la zone de chambre à l'extérieur du récipient de traitement.
(KO)
본 발명은 에어 커튼을 이용한 케미컬 퓸 제거장치에 관한 것이다. 본 발명은 챔버 내부에 배치되어 있으며 상단에 개구부가 형성되어 있는 처리 용기, 상기 처리 용기 내부에 배치되어 있으며 처리 대상인 기판이 배치된 척, 상기 척에 배치된 기판에 케미컬을 분사하는 케미컬 분사부 및 상기 처리 용기의 개구부에 에어 커튼을 형성하여 상기 케미컬 분사부에 의해 분사되는 케미컬에 의한 기판 처리 과정에서 발생하는 케미컬 퓸이 상기 처리 용기의 개구부를 통해 상기 처리 용기 외부의 챔버 공간으로 확산되는 것을 방지하는 에어 커튼부를 포함한다. 본 발명에 따르면, 반도체 공정의 에칭 또는 세정 과정에서 발생하는 케미컬 퓸(chemical fume)을 에어 커튼을 이용하여 차단한 상태에서 외부로 배출시킴으로써 케미컬 퓸이 처리 용기 외부의 챔버 영역으로 확산되어 챔버 내부를 오염시키는 문제를 방지할 수 있다.
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