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1. WO2020065734 - PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE

Numéro de publication WO/2020/065734
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/JP2018/035503
Date du dépôt international 25.09.2018
CIB
B08B 3/12 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
08NETTOYAGE
BNETTOYAGE EN GÉNÉRAL; PROTECTION CONTRE LA SALISSURE EN GÉNÉRAL
3Nettoyage par des procédés impliquant l'utilisation ou la présence d'un liquide ou de vapeur d'eau
04Nettoyage impliquant le contact avec un liquide
10avec traitement supplémentaire du liquide ou de l'objet en cours de nettoyage, p.ex. par la chaleur, par l'électricité, par des vibrations
12par des vibrations soniques ou ultrasoniques
CPC
B08B 3/12
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
3Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
04Cleaning involving contact with liquid
10with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity, by vibration
12by sonic or ultrasonic vibrations
Déposants
  • シャープ株式会社 SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP]/[JP]
Inventeurs
  • 犬塚 真博 INUZUKA, Masahiro
Mandataires
  • 特許業務法人HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK HARAKENZO WORLD PATENT & TRADEMARK
Données relatives à la priorité
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) VAPOR-DEPOSITION-MASK CLEANING METHOD AND DISPLAY-DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) PROCÉDÉ DE NETTOYAGE DE MASQUE DE DÉPÔT EN PHASE VAPEUR ET PROCÉDÉ DE FABRICATION DE DISPOSITIF D'AFFICHAGE
(JA) 蒸着マスクの洗浄方法及び表示デバイスの製造方法
Abrégé
(EN)
A method for cleaning a vapor-deposition mask (50) having a plurality of vapor-deposition holes (52) includes: a coating step for coating the surface of the vapor-deposition mask (50) with a coating agent containing a surfactant; a cleaning step for cleaning the vapor-deposition mask (50) by radiating ultrasonic wave onto an organic solvent tank (80) in a state in which the vapor-deposition mask (50) is immersed in the organic solvent tank (80), thus degrading the surfactant contained in the coating agent coating the surface; and a drying step for drying the vapor-deposition mask (50).
(FR)
L'invention concerne un procédé de nettoyage d'un masque de dépôt en phase vapeur (50) présentant une pluralité de trous de dépôt en phase vapeur (52) incluant : une étape de revêtement destinée à revêtir la surface du masque de dépôt en phase vapeur (50) avec un agent de revêtement contenant un tensioactif ; une étape de nettoyage destinée à nettoyer le masque de dépôt en phase vapeur (50) par rayonnement d'une onde ultrasonore sur un réservoir de solvant organique (80) dans un état dans lequel le masque de dépôt en phase vapeur (50) est immergé dans le réservoir de solvant organique (80), ce qui permet de dégrader le tensioactif contenu dans l'agent de revêtement revêtant la surface ; et une étape de séchage destinée à sécher le masque de dépôt en phase vapeur (50).
(JA)
複数の蒸着孔(52)を有する蒸着マスク(50)の洗浄方法であって、蒸着マスク(50)の表面を界面活性剤を含むコーティング剤にてコーティングするコーティング工程と、蒸着マスク(50)を有機溶媒槽(80)に浸した状態で、有機溶媒槽(80)に超音波を照射することにより、表面にコーティングされたコーティング剤に含まれる界面活性剤を低分子化して蒸着マスク(50)を洗浄する洗浄工程と、蒸着マスク(50)を乾燥する乾燥工程と、を備える。
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