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1. WO2020064195 - SYSTÈME LASER POUR MÉTROLOGIE CIBLÉE ET MODIFICATION DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE EUV

Numéro de publication WO/2020/064195
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/071536
Date du dépôt international 12.08.2019
CIB
H05G 2/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
GTECHNIQUE DES RAYONS X
2Appareils ou procédés spécialement adaptés à la production de rayons X, n'utilisant pas de tubes à rayons X, p.ex. utilisant la génération d'un plasma
CPC
H05G 2/005
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
003being produced from a liquid or gas
005containing a metal as principal radiation generating component
H05G 2/008
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
GX-RAY TECHNIQUE
2Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
001X-ray radiation generated from plasma
008involving a beam of energy, e.g. laser or electron beam in the process of exciting the plasma
Déposants
  • ASML NETHERLANDS B.V. [NL]/[NL]
Inventeurs
  • RAFAC, Robert, Jay
  • FOMENKOV, Igor, Vladimirovich
Mandataires
  • SLENDERS, Petrus Johannes Waltherus
Données relatives à la priorité
62/736,01225.09.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LASER SYSTEM FOR TARGET METROLOGY AND ALTERATION IN AN EUV LIGHT SOURCE
(FR) SYSTÈME LASER POUR MÉTROLOGIE CIBLÉE ET MODIFICATION DANS UNE SOURCE DE LUMIÈRE EUV
Abrégé
(EN)
Disclosed is a system and method for generating EUV radiation in which a laser is used in a multistage process to illuminate without altering a target material and then irradiate the target material to alter a target material with the illumination stage being used to determine the timing for firing during the irradiation stage or stages.
(FR)
L'invention concerne un système et un procédé pour générer un rayonnement EUV dans lequel un laser est utilisé dans un processus en plusieurs étapes pour éclairer sans modifier un matériau cible, puis irradier le matériau cible pour modifier un matériau cible, l'étape d'éclairage étant utilisée pour déterminer la synchronisation pour le déclenchement pendant l'étape ou les étapes d'irradiation.
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