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1. WO2020064035 - SYSTÈME DE FAISCEAUX DE PARTICULES POUR RÉGULER DES COURANTS DE FAISCEAUX DE PARTICULES INDIVIDUELS

Numéro de publication WO/2020/064035
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/DE2019/000196
Date du dépôt international 23.07.2019
CIB
H01J 37/04 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
02Détails
04Dispositions des électrodes et organes associés en vue de produire ou de commander la décharge, p.ex. dispositif électronoptique, dispositif ionoptique
H01J 37/28 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
26Microscopes électroniques ou ioniques; Tubes à diffraction d'électrons ou d'ions
28avec faisceaux de balayage
CPC
H01J 2237/0453
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
045Diaphragms
0451with fixed aperture
0453multiple apertures
H01J 2237/04924
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
04Means for controlling the discharge
049Focusing means
0492Lens systems
04924electrostatic
H01J 2237/1205
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
10Lenses
12electrostatic
1205Microlenses
H01J 2237/1532
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
153Correcting image defects, e.g. stigmators
1532Astigmatism
H01J 2237/248
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
2237Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
248Components associated with the control of the tube
H01J 37/04
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
02Details
04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
Déposants
  • CARL ZEISS MULTISEM GMBH [DE]/[DE]
Inventeurs
  • ZEIDLER, Dirk
  • FRITZ, Hans
  • MÜLLER, Ingo
  • METALIDIS, Georgo
Mandataires
  • TESCH-BIEDERMANN, Carmen
Données relatives à la priorité
10 2018 007 652.127.09.2018DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) TEILCHENSTRAHL-SYSTEM ZUR STROMREGULIERUNG VON EINZEL-TEILCHENSTRAHLEN
(EN) PARTICLE BEAM SYSTEM FOR REGULATING THE CURRENT OF INDIVIDUAL PARTICLE BEAMS
(FR) SYSTÈME DE FAISCEAUX DE PARTICULES POUR RÉGULER DES COURANTS DE FAISCEAUX DE PARTICULES INDIVIDUELS
Abrégé
(DE)
Offenbart wird ein Teilchenstrahl-System zur Einstellung von Einzelstrahl-Strömen, welches Folgendes aufweist: mindestens eine Teilchenquelle, welche dazu konfiguriert ist, einen Strahl geladener Teilchen zu erzeugen; ein erstes Multi-Linsen-Array, welches eine erste Vielzahl von individuell einstellbaren und fokussierenden Teilchenlinsen aufweist und welches im Strahlengang der Teilchen derart angeordnet ist, dass mindestens einige Teilchen Öffnungen des Multi-Linsen-Arrays in Form von mehreren Einzel-Teilchenstrahlen durchsetzen; eine zweite Multiaperturplatte, welche eine Vielzahl von zweiten Öffnungen aufweist und welche in dem Strahlengang der Teilchen nach dem ersten Multi-Linsen-Array und so angeordnet ist, dass Teilchen, die das erste Multi-Linsen-Array passieren, teilweise auf die zweite Multiaperturplatte treffen und teilweise die Öffnungen der zweiten Multiaperturplatte durchsetzen; und eine Steuerung, die dazu eingerichtet ist, den Teilchenlinsen des ersten Multi-Linsen-Arrays eine individuell einstellbare Spannung zuzuführen und so für jeden Einzel-Teilchenstrahl die Fokussierung der zugehörigen Teilchenlinse individuell einzustellen.
(EN)
A particle beam system for setting individual beam currents is disclosed, said particle beam system comprising the following: at least one particle source, which is configured to produce a beam of charged particles; a first multi-lens array, which comprises a first multiplicity of individually adjustable particle lenses that carry out focussing and which is disposed in the beam path of the particles in such a way that at least some particles pass through openings of the multi-lens array in the form of a plurality of individual particle beams; a second multi-aperture plate, which has a multiplicity of second openings and which is disposed in the beam path of the particles downstream of the first multi-lens array and disposed in such a way that particles that pass the first multi-lens array partly strike the second multi-aperture plate and partly pass through the openings in the second multi-aperture plate; and a controller, which is configured to supply an individually adjustable voltage to the particle lenses of the first multi-lens array and thus individually set the focussing of the associated particle lens for each individual particle beam.
(FR)
L'invention concerne un système de faisceaux de particules pour réguler des courants de faisceaux individuels, comprenant : au moins une source de particules configurée pour générer un faisceau de particules chargées ; un premier réseau multi-lentilles qui comprend une première pluralité de lentilles à particules à réglage et mise au point individuels et qui est agencé sur la trajectoire des particules de manière qu’au moins quelques particules traversent des ouvertures du réseau multi-lentilles sous la forme de plusieurs faisceaux de particules individuels ; une deuxième plaque à ouvertures multiples qui comporte une pluralité de deuxièmes ouvertures et qui est agencée sur la trajectoire des particules en aval du premier réseau multi-lentilles et disposée de manière que les particules qui passent par le premier réseau multi-lentilles rencontrent, pour une partie, la deuxième plaque à ouvertures multiples et traversent, pour une partie, les ouvertures de la deuxième plaque à ouvertures multiples ; et une unité de commande conçue pour appliquer une tension réglable individuellement aux lentilles à particules du premier réseau multi-lentilles, et pour régler individuellement la mise au point de la lentille à particules correspondante pour chaque faisceau de particules individuel.
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