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1. WO2020062045 - DISPOSITIF DE COUPE INTÉGRÉ EN CÉRAMIQUE DE NITRURE DE SILICIUM REVÊTU DE DIAMANT ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET APPLICATION DE DISPOSITIF DE COUPE DANS DU GRAPHITE

Numéro de publication WO/2020/062045
Date de publication 02.04.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/108380
Date du dépôt international 28.09.2018
CIB
B23B 27/00 2006.01
BTECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
23MACHINES-OUTILS; TRAVAIL DES MÉTAUX NON PRÉVU AILLEURS
BTOURNAGE; PERÇAGE
27Outils pour machines à tourner ou à aléser; Outils de type similaire en général; Accessoires de ces outils
C23C 16/27 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
23REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT CHIMIQUE DE SURFACE; TRAITEMENT DE DIFFUSION DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL; MOYENS POUR EMPÊCHER LA CORROSION DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES, L'ENTARTRAGE OU LES INCRUSTATIONS, EN GÉNÉRAL
CREVÊTEMENT DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; REVÊTEMENT DE MATÉRIAUX AVEC DES MATÉRIAUX MÉTALLIQUES; TRAITEMENT DE SURFACE DE MATÉRIAUX MÉTALLIQUES PAR DIFFUSION DANS LA SURFACE, PAR CONVERSION CHIMIQUE OU SUBSTITUTION; REVÊTEMENT PAR ÉVAPORATION SOUS VIDE, PAR PULVÉRISATION CATHODIQUE, PAR IMPLANTATION D'IONS OU PAR DÉPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR, EN GÉNÉRAL
16Revêtement chimique par décomposition de composés gazeux, ne laissant pas de produits de réaction du matériau de la surface dans le revêtement, c. à d. procédés de dépôt chimique en phase vapeur (CVD)
22caractérisé par le dépôt de matériaux inorganiques, autres que des matériaux métalliques
26Dépôt uniquement de carbone
27Le diamant uniquement
CPC
B23B 27/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
23MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
BTURNING; BORING
27Tools for turning or boring machines
C23C 16/27
CCHEMISTRY; METALLURGY
23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
16Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
22characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
26Deposition of carbon only
27Diamond only
Déposants
  • 广东工业大学 GUANGDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 王成勇 WANG, Chengyong
  • 周玉海 ZHOU, Yuhai
  • 郑李娟 ZHENG, Lijuan
Mandataires
  • 惠州市超越知识产权代理事务所(普通合伙) HUIZHOU CHOYES INTELLECTUAL PROPERTY AGENCY (GERNAL PARTNERSHIP)
Données relatives à la priorité
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) DIAMOND-COATED SILICON NITRIDE CERAMIC INTEGRAL CUTTER AND PREPARATION METHOD THEREFOR, AND APPLICATION OF CUTTER IN GRAPHITE
(FR) DISPOSITIF DE COUPE INTÉGRÉ EN CÉRAMIQUE DE NITRURE DE SILICIUM REVÊTU DE DIAMANT ET SON PROCÉDÉ DE PRÉPARATION ET APPLICATION DE DISPOSITIF DE COUPE DANS DU GRAPHITE
(ZH) 金刚石涂层氮化硅陶瓷整体刀具及其制备方法与刀具在石墨中的应用
Abrégé
(EN)
A diamond-coated silicon nitride ceramic integral cutter and a preparation method therefor, and an application of the cutter in graphite processing, which relate to the field of ceramic cutters. The cutter is composed of a silicon nitride ceramic substrate and a diamond thin film coating, and the diamond thin film coating is applied to a surface of the silicon nitride ceramic substrate and has a thickness of 7μm-12μm. Chemical vapor deposition (CVD) diamond thin films are widely used in various cutters due to the excellent chemical and physical properties thereof, as well as extremely high hardness, excellent wear resistance and chemical stability. Coated cutters have the advantages of a good cutting performance, extremely high hardness and wear resistance, and low coefficients of thermal expansion, thereby improving the wear resistance and service life of the cutters.
(FR)
L'invention porte sur un dispositif de coupe intégré en céramique de nitrure de silicium revêtu de diamant et sur son procédé de préparation et sur une application du dispositif de coupe dans un traitement de graphite, qui se rapportent au domaine des dispositifs de coupe en céramique. Le dispositif de coupe est composé d'un substrat céramique de nitrure de silicium et d'un revêtement de film mince de diamant et le revêtement de film mince de diamant est appliqué sur une surface du substrat céramique de nitrure de silicium et a une épaisseur de 7 µm -12 µm. Les films minces de diamant par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont largement utilisés dans divers dispositifs de coupe en raison des excellentes propriétés chimiques et physiques de ceux-ci, ainsi qu'une dureté extrêmement élevée, une excellente résistance à l'usure et une excellente stabilité chimique. Les dispositifs de coupe revêtus présentent les avantages d'une bonne performance de coupe, d'une dureté extrêmement élevée et d'une résistance à l'usure et de faibles coefficients de dilatation thermique, ce qui permet d'améliorer la résistance à l'usure et la durée de vie des dispositifs de coupe.
(ZH)
一种金刚石涂层氮化硅陶瓷整体刀具及其制备方法与该刀具在石墨加工中的应用,涉及陶瓷刀具领域。刀具由氮化硅陶瓷基体和金刚石薄膜涂层构成,金刚石薄膜涂层涂抹在氮化硅陶瓷基体表面,厚度为7μm~12μm。化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜由于其优异的化学和物理性能,具有极高硬度、优异的耐磨性和化学稳定性而被广泛应用于各种刀具中。涂层刀具具有良好的切削性能,极高的硬度和耐磨性、低热膨胀系数等优点,从而提升刀具耐磨性和使用寿命。
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