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1. WO2020023974 - GÉNÉRATION D'IMPULSIONS DE GÉNÉRATEUR D'IMPULSIONS NANOSECONDES

Numéro de publication WO/2020/023974
Date de publication 30.01.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/043988
Date du dépôt international 29.07.2019
CIB
H05H 1/24 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
24Production du plasma
H01J 37/32 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
JTUBES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE OU LAMPES À DÉCHARGE ÉLECTRIQUE
37Tubes à décharge pourvus de moyens permettant l'introduction d'objets ou d'un matériau à exposer à la décharge, p.ex. pour y subir un examen ou un traitement
32Tubes à décharge en atmosphère gazeuse
C01B 13/11 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
13Oxygène; Ozone; Oxydes ou hydroxydes en général
10Préparation de l'ozone
11par décharge électrique
C01B 13/10 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
01CHIMIE INORGANIQUE
BÉLÉMENTS NON MÉTALLIQUES; LEURS COMPOSÉS
13Oxygène; Ozone; Oxydes ou hydroxydes en général
10Préparation de l'ozone
H03K 5/13 2014.01
HÉLECTRICITÉ
03CIRCUITS ÉLECTRONIQUES FONDAMENTAUX
KTECHNIQUE DE L'IMPULSION
5Manipulation d'impulsions non couvertes par l'un des autres groupes principaux de la présente sous-classe
13Dispositions ayant une sortie unique et transformant les signaux d'entrée en impulsions délivrées à des intervalles de temps désirés
H03K 3/02 2006.01
HÉLECTRICITÉ
03CIRCUITS ÉLECTRONIQUES FONDAMENTAUX
KTECHNIQUE DE L'IMPULSION
3Circuits pour produire des impulsions électriques; Circuits monostables, bistables ou multistables
02Générateurs caractérisés par le type de circuit ou par les moyens utilisés pour produire des impulsions
CPC
H01J 37/32082
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
H01J 37/32091
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32091the radio frequency energy being capacitively coupled to the plasma
H01J 37/32128
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32128using particular waveforms, e.g. polarised waves
H01J 37/32146
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32137controlling of the discharge by modulation of energy
32146Amplitude modulation, includes pulsing
H01J 37/32174
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
32082Radio frequency generated discharge
32174Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
H01J 37/32541
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32431Constructional details of the reactor
32532Electrodes
32541Shape
Déposants
  • EAGLE HARBOR TECHNOLOGIES, INC.
Inventeurs
  • SLOBODOV, Ilia
  • ZIEMBA, Timothy
  • CARSCADDEN, John
  • MILLER, Kenneth
  • YEAGER, Huatsern
  • HANSON, Eric
  • YEAGER, TaiSheng
  • MUGGLI, Kevin
  • QUINLEY, Morgan
  • LISTON, Connor
Mandataires
  • SANDERS, Jason, A.
Données relatives à la priorité
16/523,84026.07.2019US
62/711,33427.07.2018US
62/711,34727.07.2018US
62/711,40627.07.2018US
62/711,45727.07.2018US
62/711,46427.07.2018US
62/711,46727.07.2018US
62/711,46827.07.2018US
62/717,52310.08.2018US
62/789,52308.01.2019US
62/789,52608.01.2019US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) NANOSECOND PULSER PULSE GENERATION
(FR) GÉNÉRATION D'IMPULSIONS DE GÉNÉRATEUR D'IMPULSIONS NANOSECONDES
Abrégé
(EN)
Some embodiments include a high voltage pulsing power supply. A high voltage pulsing power supply may include: a high voltage pulser having an output that provides pulses with an amplitude greater than about 1 kV, a pulse width greater than about 1μs, and a pulse repetition frequency greater than about 20 kHz; a plasma chamber; and an electrode disposed within the plasma chamber that is electrically coupled with the output of the high voltage pulser to produce a pulsing an electric field within the chamber.
(FR)
Certains modes de réalisation de la présente invention comprennent une alimentation électrique à impulsion haute tension. Une alimentation électrique à impulsions haute tension peut comprendre : un générateur d'impulsions haute tension possédant une sortie qui fournit des impulsions présentant une amplitude supérieure à environ 1 kV, une largeur d'impulsion supérieure à environ 1 μs, et une fréquence de répétition d'impulsion supérieure à environ 20 kHz; une chambre à plasma; et une électrode disposée à l'intérieur de la chambre à plasma qui est électriquement couplée à la sortie du générateur d'impulsions haute tension pour produire une impulsion d'un champ électrique à l'intérieur de la chambre.
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international