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1. WO2020019492 - SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION

Numéro de publication WO/2020/019492
Date de publication 30.01.2020
N° de la demande internationale PCT/CN2018/108068
Date du dépôt international 27.09.2018
CIB
G02F 1/1362 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
FDISPOSITIFS OU SYSTÈMES DONT LE FONCTIONNEMENT OPTIQUE EST MODIFIÉ PAR CHANGEMENT DES PROPRIÉTÉS OPTIQUES DU MILIEU CONSTITUANT CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES ET DESTINÉS À LA COMMANDE DE L'INTENSITÉ, DE LA COULEUR, DE LA PHASE, DE LA POLARISATION OU DE LA DIRECTION DE LA LUMIÈRE, p.ex. COMMUTATION, OUVERTURE DE PORTE, MODULATION OU DÉMODULATION; TECHNIQUES NÉCESSAIRES AU FONCTIONNEMENT DE CES DISPOSITIFS OU SYSTÈMES; CHANGEMENT DE FRÉQUENCE; OPTIQUE NON LINÉAIRE; ÉLÉMENTS OPTIQUES LOGIQUES; CONVERTISSEURS OPTIQUES ANALOGIQUES/NUMÉRIQUES
1Dispositifs ou systèmes pour la commande de l'intensité, de la couleur, de la phase, de la polarisation ou de la direction de la lumière arrivant d'une source lumineuse indépendante, p.ex. commutation, ouverture de porte ou modulation; Optique non linéaire
01pour la commande de l'intensité, de la phase, de la polarisation ou de la couleur
13basés sur des cristaux liquides, p.ex. cellules d'affichage individuelles à cristaux liquides
133Dispositions relatives à la structure; Excitation de cellules à cristaux liquides; Dispositions relatives aux circuits
136Cellules à cristaux liquides associées structurellement avec une couche ou un substrat semi-conducteurs, p.ex. cellules faisant partie d'un circuit intégré
1362Cellules à adressage par une matrice active
CPC
G02F 1/1362
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
1362Active matrix addressed cells
G02F 1/136286
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
1362Active matrix addressed cells
136286Wiring, e.g. gate line, drain line
G02F 2001/136222
GPHYSICS
02OPTICS
FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
1Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating, or modulating; Non-linear optics
01for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
13based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
1362Active matrix addressed cells
136222Color filter incorporated in the active matrix substrate
Déposants
  • 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 SHENZHEN CHINA STAR OPTOELECTRONICS SEMICONDUCTOR DISPLAY TECHNOLOGY CO., LTD. [CN]/[CN]
Inventeurs
  • 宋利旺 SONG, Liwang
  • 李朝晖 LI, Zhaohui
Mandataires
  • 深圳市德力知识产权代理事务所 COMIPS INTELLECTUAL PROPERTY OFFICE
Données relatives à la priorité
201810813280.623.07.2018CN
Langue de publication chinois (ZH)
Langue de dépôt chinois (ZH)
États désignés
Titre
(EN) ARRAY SUBSTRATE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
(FR) SUBSTRAT MATRICIEL ET SON PROCÉDÉ DE FABRICATION
(ZH) 阵列基板及其制备方法
Abrégé
(EN)
An array substrate and a manufacturing method therefor. The array substrate comprises: a substrate; a plurality of data lines (20) and a plurality of scanning lines (10) located on one side of the substrate and arranged in an intersecting manner, the plurality of data lines (20) and the plurality of scanning lines (10) defining a plurality of sub-pixel regions, and the plurality of data lines (20) and the plurality of scanning lines (10) being insulated from each other; a color resist layer located on the same side of the substrate as the plurality of data lines (20) and the plurality of scanning lines (10), the color resist layer comprising a plurality of color resists (30), and two adjacent color resists (30) having an overlapping region corresponding to a data line region; and DBS common electrode wirings (41, 42) located on the side of the overlapping region of the color resist layer away from the substrate to shield the data lines (20), the edges of the DBS common electrode wirings (41, 42) being provided with even slits (100) parallel to the direction of the scanning lines (10). The array substrate and the manufacturing method therefor can reduce light leakage at the DBS common electrode wirings (41, 42) at the overlapping position of color resists, increase the color gamut and contrast, and improve product quality.
(FR)
La présente invention concerne un substrat matriciel et son procédé de fabrication. Le substrat matriciel comprend : un substrat ; une pluralité de lignes de données (20) et une pluralité de lignes de balayage (10) situées sur un côté du substrat et agencées de manière croisée, la pluralité de lignes de données (20) et la pluralité de lignes de balayage (10) définissant une pluralité de régions de sous-pixel, et la pluralité de lignes de données (20) et la pluralité de lignes de balayage (10) étant isolées les unes des autres ; une couche de résine photosensible colorée située sur le même côté du substrat que la pluralité de lignes de données (20) et la pluralité de lignes de balayage (10), la couche de résine photosensible colorée comprenant une pluralité de résines photosensibles colorées (30), et deux résines photosensibles colorées adjacentes (30) ayant une région de chevauchement correspondant à une région de ligne de données ; et des câblages d'électrode commune DBS (41, 42) situés sur le côté de la région de chevauchement de la couche de résine photosensible colorée à l'opposé du substrat pour protéger les lignes de données (20), les bords des câblages d'électrode commune DBS (41, 42) étant dotés de fentes planes (100) parallèles à la direction des lignes de balayage (10). Le substrat matriciel et son procédé de fabrication permettent de réduire la fuite de lumière au niveau des câblages d'électrode commune DBS (41, 42) au niveau de la position de chevauchement de résines photosensibles colorées, d'augmenter la gamme de couleurs et le contraste et d'améliorer la qualité du produit.
(ZH)
一种阵列基板及其制备方法。该阵列基板包括:基板;位于所述基板一侧交叉设置的多条数据线(20)和多条扫描线(10),所述多条数据线(20)和所述多条扫描线(10)限定出多个子像素区域,所述多条数据线(20)和所述多条扫描线(10)相互绝缘;与所述多条数据线(20)和所述多条扫描线(10)位于所述基板同一侧的色阻层,所述色阻层包括多个色阻(30),且相邻的两个所述色阻(30)具有对应于数据线区域的交叠区域;位于所述色阻层的交叠区域背离所述基板一侧设有DBS公共电极走线(41、42)以遮蔽数据线(20),所述DBS公共电极走线(41、42)的边缘设有平行于扫描线(10)方向的均匀狭缝(100)。该阵列基板及其制备方法能够降低色阻交叠位置DBS公共电极走线(41、42)处漏光,提高色域及对比度,提升产品品质。
Également publié en tant que
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