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1. WO2020005574 - ÉLÉMENTS D'HOMOGÉNÉISATION DE LUMIÈRE DOTÉS DE CARACTÉRISTIQUES CORRECTIVES

Numéro de publication WO/2020/005574
Date de publication 02.01.2020
N° de la demande internationale PCT/US2019/037163
Date du dépôt international 14.06.2019
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
G02B 27/09 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
09Mise en forme du faisceau, p.ex. changement de la section transversale, non prévue ailleurs
CPC
G02B 27/0025
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
0025for optical correction, e.g. distorsion, aberration
G02B 27/0905
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0905Dividing and/or superposing multiple light beams
G02B 27/0961
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
09Beam shaping, e.g. changing the cross-sectional area, not otherwise provided for
0938Using specific optical elements
095Refractive optical elements
0955Lenses
0961Lens arrays
G02B 3/0006
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
3Simple or compound lenses
0006Arrays
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/7015
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
7015Details of optical elements
Déposants
  • CORNING INCORPORATED [US]/[US]
Inventeurs
  • COBB, Joshua Monroe
  • MICHALOSKI, Paul Francis
  • STALOFF, Daniel Max
Mandataires
  • BRAY, Kevin L.
Données relatives à la priorité
62/690,39827.06.2018US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) LIGHT HOMOGENIZING ELEMENTS WITH CORRECTIVE FEATURES
(FR) ÉLÉMENTS D'HOMOGÉNÉISATION DE LUMIÈRE DOTÉS DE CARACTÉRISTIQUES CORRECTIVES
Abrégé
(EN)
Light homogenizing elements are described. The light homogenizing elements include lens arrays with corrective features designed to improve the uniformity of light fields produced by optical sources. The corrective features include masks placed at selected positions of selected lenslets in a lens array. The corrective features block or reduce the transmission of light through the lens array at the selected position to correct for spatial or angular non-uniformities in a light field produced by an optical source. Illumination systems that include a corrected lens array coupled to a light source produce highly uniform light fields. Applications include microlithography.
(FR)
L'invention concerne des éléments d'homogénéisation de lumière. Les éléments d'homogénéisation de lumière comprennent des réseaux de lentilles ayant des caractéristiques correctives conçues pour améliorer l'uniformité de champs lumineux produits par des sources optiques. Les caractéristiques correctives comprennent des masques placés à des positions sélectionnées de petites lentilles sélectionnées situées dans un réseau de lentilles. Les caractéristiques correctives bloquent ou réduisent la transmission de lumière dans le réseau de lentilles à la position sélectionnée de façon à corriger des non-uniformités spatiales ou angulaires dans un champ lumineux produit par une source optique. Des systèmes d'éclairage qui comprennent un réseau de lentilles corrigées couplé à une source de lumière produisent des champs lumineux hautement uniformes. Les applications comprennent la microlithographie.
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