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1. WO2020002379 - SONDE DE MESURE DE PARAMÈTRES PLASMATIQUES

Numéro de publication WO/2020/002379
Date de publication 02.01.2020
N° de la demande internationale PCT/EP2019/066914
Date du dépôt international 25.06.2019
CIB
H05H 1/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
05TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
HTECHNIQUE DU PLASMA; PRODUCTION DE PARTICULES ÉLECTRIQUEMENT CHARGÉES ACCÉLÉRÉES OU DE NEUTRONS; PRODUCTION OU ACCÉLÉRATION DE FAISCEAUX MOLÉCULAIRES OU ATOMIQUES NEUTRES
1Production du plasma; Mise en œuvre du plasma
CPC
G01N 22/00
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
22Investigating or analysing materials by the use of microwaves
H01J 37/32935
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32917Plasma diagnostics
32935Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
H01J 37/32972
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
37Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
32Gas-filled discharge tubes, ; e.g. for surface treatment of objects such as coating, plating, etching, sterilising or bringing about chemical reactions
32917Plasma diagnostics
32935Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
32972Spectral analysis
H05H 1/0037
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
0006Investigating plasma, e.g. degree of ionisation (electron temperature)
0012by using radiation
0037by spectrometry
H05H 1/0062
HELECTRICITY
05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
HPLASMA TECHNIQUE
1Generating plasma; Handling plasma
0006Investigating plasma, e.g. degree of ionisation (electron temperature)
0012by using radiation
0062by using microwaves
Déposants
  • RUHR-UNIVERSITÄT BOCHUM [DE]/[DE]
Inventeurs
  • POHLE, Dennis
  • SCHULZ, Christian
  • ROLFES, Ilona
Mandataires
  • MICHALSKI HÜTTERMANN & PARTNER PATENTANWÄLTE MBB
Données relatives à la priorité
10 2018 115 389.926.06.2018DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) SONDE ZUR MESSUNG VON PLASMAPARAMETERN
(EN) PROBE FOR MEASURING PLASMA PARAMETERS
(FR) SONDE DE MESURE DE PARAMÈTRES PLASMATIQUES
Abrégé
(DE)
Die Erfindung betrifft eine Sonde (10) zur Messung von Plasmaparametern mittels aktiver Plasma-Resonanzspektroskopie, wobei die Sonde (10) eine externe Ankopplung (12a), ein Symmetrierglied (14), eine interne Ankopplung (12b) und einen Sondenkopf (16) umfasst. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass die Ankopplungen (12a, 12b), das Symmetrierglied (14) und der Sondenkopf (16) in einem elektrisch isolierenden Substratzylinder (18) integriert sind und der Substratzylinder (18) entlang seiner Rotationsachse einen schichtartigen Aufbau aus mehreren Substratlagen (20) aufweist. Auf diese Weise wird eine Sonde zur Messung von Plasmaparametern bereitgestellt, die eine verbesserte Messung der Plasmaparameter ermöglicht, wobei bei der Messung der Plasmaparameter das Plasma insbesondere möglichst wenig beeinflusst wird.
(EN)
The invention relates to a probe (10) for measuring plasma parameters by means of active plasma resonance spectroscopy, wherein the probe (10) comprises an external coupling (12a), a symmetrization member (14), an internal coupling (12b) and a probe head (16). According to the invention, provision is made for the couplings (12a, 12b), the symmetrization member (14) and the probe head (16) to be integrated in an electrically insulating substrate cylinder (18) and for the substrate cylinder (18) to have a layer-type structure made of a plurality of substrate layers (20) along its axis of rotation. This provides a probe for measuring plasma parameters, said probe facilitating an improved measurement of the plasma parameters, wherein the plasma, in particular, is influenced as little as possible during the measurement of the plasma parameters.
(FR)
L’invention concerne une sonde (10) destinée à mesurer des paramètres plasmatiques par spectroscopie à résonance active du plasma. La sonde (10) comprend un couplage externe (12a), un transformateur d’entrée symétrique-dissymétrique (14), un couplage interne (12b) et une tête de sonde (16). Selon l’invention, les couplages (12a, 12b), ledit transformateur (14) et la tête de sonde (16) sont intégrés dans un cylindre de substrat (18) électriquement isolant et le cylindre de substrat (18) présente le long de son axe de rotation une structure en couches comprenant une pluralité de couches de substrat (20). On obtient ainsi une sonde de mesure de paramètres plasmatiques qui permet une mesure améliorée des paramètres plasmatiques. En particulier, on influe le moins possible sur le plasma lors de la mesure des paramètres plasmatiques.
Également publié en tant que
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